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公开(公告)号：CN118707800A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410921344.X
申请日：2018-11-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 彼得-詹·范兹沃勒 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克 , E·库尔干诺娃 , 马克西姆·A·纳萨勒维奇 , A·W·诺滕博姆 , M·彼得 , L·A·斯基梅诺克 , T·W·范德伍德 , D·F·弗莱斯
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/22 , G03F1/38 , H01L21/027
摘要： 用于EUV光刻的隔膜组件以及光谱纯度滤光片或表膜。隔膜组件包括：隔膜，由包括氮化金属硅化物的至少一个层形成；和边界，所述边界保持所述隔膜。
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公开(公告)号：CN111373324A
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201880071768.4
申请日：2018-11-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 彼得-詹·范兹沃勒 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克 , E·库尔干诺娃 , 马克西姆·A·纳萨勒维奇 , A·W·诺滕博姆 , M·彼得 , L·A·斯基梅诺克 , T·W·范德伍德 , D·F·弗莱斯
IPC分类号： G03F1/62
摘要： 用于光刻设备的表膜及其制造方法，其中，该表膜包括氮化金属硅化物或氮化硅。还公开了氮化金属硅化物或氮化硅表膜在光刻设备中的用途。还公开了用于光刻设备的表膜，该表膜包括至少一个补偿层，该补偿层被选择并配置为抵消在暴露于EUV辐射时该表膜的透射率的变化；以及控制该表膜的透射率的方法和设计表膜的方法。
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公开(公告)号：CN102047183B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN200980120621.0
申请日：2009-05-20
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。
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公开(公告)号：CN102047183A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200980120621.0
申请日：2009-05-20
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层，Cr和C层，C和B4C层，U和B4C层，Th和B4C层，C和B9C层，La和B9C层，U和B9C层，Th和B9C层，La和B层，C和B层，U和B层，以及Th和B层构成的组中选出的交替层。
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