公开(公告)号：CN107003619A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580065520.3

申请日：2015-11-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H·巴特勒 ,  R·M·S·诺普斯 ,  B·斯特里夫柯克 ,  C·L·瓦伦汀 ,  简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ,  W·F·J·西蒙斯 ,  L·L·F·默克斯 ,  R·J·M·德琼 ,  R·J·E·梅里 ,  M·F·伊普玛

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/705 ,  G03F7/706

摘要： 一种用于光刻设备的投影系统(PS1)包括：光学路径(100)、多个传感器(S1‑S4)、一个或更多个致动器(A1‑A4)；和控制器(CN)。所述光学路径能够操作以接收输入辐射束(Bin)和将输出辐射束(Bout)投影到衬底上以形成图像。所述光学路径包括多个光学元件(M1‑M4)，所述多个光学元件包括第一组至少两个光学元件(M1，M4)和第二组至少一个光学元件(M2，M3)。每个传感器与所述多个光学元件中的一个相关联且能够操作以确定该光学元件的位置。每个致动器与所述第二组光学元件中的一个相关联且能够操作以调整该光学元件。所述控制器能够操作以使用所述一个或更多个致动器以依赖于第一组光学元件所确定的位置来调整所述第二组光学元件，以便于至少部分地补偿由所述第一组光学元件的位置所造成的光学像差和/或视线误差。

公开(公告)号：CN107003619B

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201580065520.3

申请日：2015-11-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H·巴特勒 ,  R·M·S·诺普斯 ,  B·斯特里夫柯克 ,  C·L·瓦伦汀 ,  简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ,  W·F·J·西蒙斯 ,  L·L·F·默克斯 ,  R·J·M·德琼 ,  R·J·E·梅里 ,  M·F·伊普玛

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/705 ,  G03F7/706

摘要： 一种用于光刻设备的投影系统(PS1)包括：光学路径(100)、多个传感器(S1‑S4)、一个或更多个致动器(A1‑A4)；和控制器(CN)。所述光学路径能够操作以接收输入辐射束(Bin)和将输出辐射束(Bout)投影到衬底上以形成图像。所述光学路径包括多个光学元件(M1‑M4)，所述多个光学元件包括第一组至少两个光学元件(M1，M4)和第二组至少一个光学元件(M2，M3)。每个传感器与所述多个光学元件中的一个相关联且能够操作以确定该光学元件的位置。每个致动器与所述第二组光学元件中的一个相关联且能够操作以调整该光学元件。所述控制器能够操作以使用所述一个或更多个致动器以依赖于第一组光学元件所确定的位置来调整所述第二组光学元件，以便于至少部分地补偿由所述第一组光学元件的位置所造成的光学像差和/或视线误差。