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发明公开
一种光学装置、照射系统、投影系统、EUV辐射源、光刻设备、污染沉积防止方法以及光学部件翻新方法审中-公开

公开(公告)号：CN118265951A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202280077051.7

申请日：2022-10-21

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： D·米隆 , M·A·范德柯克霍夫 , R·范伦特

IPC分类号： G03F1/38 , G03F7/20

摘要： 本发明涉及一种用于EUV辐射的光学装置，包括：‑用于反射EUV辐射的光学部件，所述光学部件包括第一电极；‑第二电极，所述第二电极被布置成与所述光学部件相距一距离；以及‑电压源，所述电压源连接到所述第一电极和所述第二电极，以在所述第一电极与所述第二电极之间施加DC偏压电压，使得所述第一电极相对于所述第二电极处于负偏压，其中，所述电压源被配置成以预定的动态行为在所述第一电极与所述第二电极之间施加DC偏压电压。