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公开(公告)号：CN113993799B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202080044899.0
申请日：2020-05-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·范德柯克霍夫
摘要： 一种基板搬运系统，包括：基板保持器，所述基板保持器包括具有主体表面的主体和从所述主体表面突出以支撑与所述主体表面间隔开的基板的多个突节；夹持装置，所述夹持装置被配置成将所述基板夹持至所述基板保持器上和/或从所述基板保持器松开所述基板；和传送装置，所述传送装置被配置成将所述基板装载至所述基板保持器上和/或从所述基板保持器卸载所述基板，其中所述传送装置被进一步配置成在基板被夹持到所述基板保持器期间和/或基板从所述基板保持器松开期间物理接触所述基板。还描述了用于夹持和松开基板的方法、计算机程序、计算机可读介质和光刻设备。
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公开(公告)号：CN118265951A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202280077051.7
申请日：2022-10-21
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·米隆 , M·A·范德柯克霍夫 , R·范伦特
摘要： 本发明涉及一种用于EUV辐射的光学装置，包括：‑用于反射EUV辐射的光学部件，所述光学部件包括第一电极；‑第二电极，所述第二电极被布置成与所述光学部件相距一距离；以及‑电压源，所述电压源连接到所述第一电极和所述第二电极，以在所述第一电极与所述第二电极之间施加DC偏压电压，使得所述第一电极相对于所述第二电极处于负偏压，其中，所述电压源被配置成以预定的动态行为在所述第一电极与所述第二电极之间施加DC偏压电压。
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公开(公告)号：CN111344637B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN201880072153.3
申请日：2018-10-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 阿列克谢·谢尔盖耶维奇·库兹涅佐夫 , K·比斯特罗夫 , V·Y·班尼恩 , M·A·范德柯克霍夫 , N·舒 , A·尼基帕罗夫
摘要： 一种清洁表面以从该表面去除污染物的方法，该方法包括以下步骤：使该污染物的至少一部分氧化；以及使二氧化碳雪流从该污染物经过。一种用于清洁表面的设备，该设备包括至少一个二氧化碳雪出口和至少一个等离子体出口。一种清洁头，该清洁头包括至少一个二氧化碳雪出口和至少一个等离子体出口。
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公开(公告)号：CN113168088A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079386.0
申请日：2019-11-22
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种用于从隔膜移除粒子的隔膜清洁设备，包括：隔膜支撑件；以及电场生成机构。所述隔膜支撑件用于支撑所述隔膜。所述电场生成机构用于当所述隔膜由所述隔膜支撑件支撑时在所述隔膜附近生成电场。所述电场生成机构可以包括：一个或更多个集电极；和用于跨越由所述隔膜支撑件支撑的所述隔膜和所述一个或更多个集电极中的一个或每个集电极施加电压的机构。
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公开(公告)号：CN111344637A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201880072153.3
申请日：2018-10-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 阿列克谢·谢尔盖耶维奇·库兹涅佐夫 , K·比斯特罗夫 , V·Y·班尼恩 , M·A·范德柯克霍夫 , N·舒 , A·尼基帕罗夫
摘要： 一种清洁表面以从该表面去除污染物的方法，该方法包括以下步骤：使该污染物的至少一部分氧化；以及使二氧化碳雪流从该污染物经过。一种用于清洁表面的设备，该设备包括至少一个二氧化碳雪出口和至少一个等离子体出口。一种清洁头，该清洁头包括至少一个二氧化碳雪出口和至少一个等离子体出口。
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公开(公告)号：CN102027416B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN200980117044.X
申请日：2009-04-27
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·范德柯克霍夫
CPC分类号： G03F7/70633 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2201/06113 , G01N2201/10 , G03F7/70616
摘要： 本发明涉及检测位于图案中的目标。本发明通过从所述周围图案滤出傅里叶变换而在光瞳平面中操作。具体地，所述方法包括在反射的辐射数据上进行傅里叶变换以形成傅里叶变换数据；移除傅里叶变换数据中对应于所述目标的部分，以形成简化的傅里叶变换数据；对被移除的所述简化的傅里叶变换数据的所述部分进行插值，以形成产品傅里叶变换数据；和从所述傅里叶变换数据减去所述产品傅里叶变换数据。
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公开(公告)号：CN102027416A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980117044.X
申请日：2009-04-27
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·范德柯克霍夫
CPC分类号： G03F7/70633 , G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2201/06113 , G01N2201/10 , G03F7/70616
摘要： 本发明涉及检测位于图案中的目标。本发明通过从所述周围图案滤出傅里叶变换而在光瞳平面中操作。具体地，所述方法包括在反射的辐射数据上进行傅里叶变换以形成傅里叶变换数据；移除傅里叶变换数据中对应于所述目标的部分，以形成简化的傅里叶变换数据；对被移除的所述简化的傅里叶变换数据的所述部分进行插值，以形成产品傅里叶变换数据；和从所述傅里叶变换数据减去所述产品傅里叶变换数据。
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公开(公告)号：CN116940901A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202280019613.2
申请日：2022-02-10
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 克塞尼亚·谢尔盖夫纳·马卡伦科 , M·A·范德柯克霍夫 , A·多尔戈夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于夹持物体的静电夹具，该静电夹具包括电粘附层，该电粘附层包括涂覆有绝缘材料的多个导电性可压缩材料元件，其中，电粘附层被配置为以电气方式改变对物体的粘附性，以用于夹持及松开物体，其中，所述元件具有在1nm至100nm的范围内、优选地在5nm至20nm的范围内的平均直径。
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公开(公告)号：CN115598920A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211277895.4
申请日：2016-12-02
申请人： ASML荷兰有限公司(NL) , ASML控股股份有限公司(NL)
发明人： D·F·弗莱斯 , E·A·阿贝格 , A·本迪克塞 , 德克·S·G·布龙 , P·K·果维欧 , 保罗·詹森 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , 玛丽亚·皮特 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , J·N·威利
摘要： 一种适合与用于光刻设备的图案形成装置一起使用的表膜。所述表膜包括至少一个破裂区域，配置成在光刻设备中的正常使用期间在表膜的剩余区域破裂之前优先破裂。至少一个破裂区域包括表膜的在与表膜的周围区域相比时具有减小的厚度的区域。
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公开(公告)号：CN115202162A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210937948.4
申请日：2016-12-02
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于EUV光刻术的隔膜，所述隔膜具有不大于200nm的厚度并且包括叠层，所述叠层包括：至少一个硅层；和至少一个硅化合物层，由硅和选自由硼、磷、溴组成的组中的元素的化合物组成。
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