公开(公告)号：CN1841212A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610077418.8

申请日：2006-03-28

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·W·雅各布斯 ,  V·Y·巴尼内 ,  B·D·布里威斯特 ,  V·V·伊弗诺夫 ,  B·M·默滕斯 ,  J·H·J·穆尔斯 ,  R·G·利夫西 ,  B·T·沃尔施里恩

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70933

摘要： 一种光刻投影装置，包括：·用于提供辐射投影光束的辐射系统；·具有掩模架用于保持掩模的掩模台；·具有基底架用于保持基底的基底台；·用于将掩模的辐射部分成像在基底的靶部分上的投影系统。由此：a)用介入空间将投影系统与基底台分隔开，该介入空间至少能部分地被抽真空，并且其在投影系统位置处由固体表面界定，所用的辐射从该表面指向基底台；b)介入空间包括位于固体表面和基底台之间的并围绕辐射路径设置的中空管，该管的形状和尺寸是这样的：使得投影系统聚焦在基底台上的辐射不会与该中空管壁交叉。c)提供用于利用气流连续冲洗中空管内部的部件，其中所述气体为氢气、氦气、氘化氢、氘或氩气和氢气的混合物，并且该气体的流动与来自基底的污染物的流动相反，并且/或中空管与介入空间流体连通。