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发明公开
量测设备和确定感兴趣的特性的方法审中-实审

公开(公告)号：CN111316172A

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201880072181.5

申请日：2018-10-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·J·登博夫 , R·J·A·范登厄特拉尔

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 用于确定与衬底上的至少一个结构有关的感兴趣的特性的量测设备和方法。量测设备包括传感器和光学系统。传感器用于检测入射在传感器上的辐射的特性。光学系统包括照射路径和检测路径。光学系统被配置为利用经由照射路径从源接收的辐射来照射至少一个结构。光学系统被配置为接收由至少一个结构散射的辐射，并且经由检测路径将接收的辐射透射至传感器。