公开(公告)号：CN102681352A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210056867.X

申请日：2012-03-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ,  J·J·奥坦斯 ,  E·J·M·尤森 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  W·P·范德兰特 ,  F·斯塔尔斯 ,  L·J·曼彻特 ,  E·W·博高特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。

公开(公告)号：CN102193329B

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201110056943.2

申请日：2011-03-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： W·P·范德兰特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01B11/0608 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7096

摘要： 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。并且披露了一种配置用于测量布置在测量位置中的衬底的水平高度的水平传感器。所述水平传感器包括：投影单元，用以将多个测量束投影到衬底上的多个测量位置上；检测单元，用以接收在衬底上反射之后的测量束；以及处理单元，用以基于由所述检测单元接收的所述被反射的测量束来计算水平高度，其中，所述投影单元和所述检测单元布置成当所述衬底布置在所述测量位置中时邻近所述衬底。

公开(公告)号：CN102681352B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201210056867.X

申请日：2012-03-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ,  J·J·奥坦斯 ,  E·J·M·尤森 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  W·P·范德兰特 ,  F·斯塔尔斯 ,  L·J·曼彻特 ,  E·W·博高特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。

公开(公告)号：CN102193329A

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN201110056943.2

申请日：2011-03-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： W·P·范德兰特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01B11/0608 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7096

摘要： 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。并且披露了一种配置用于测量布置在测量位置中的衬底的水平高度的水平传感器。所述水平传感器包括：投影单元，用以将多个测量束投影到衬底上的多个测量位置上；检测单元，用以接收在衬底上反射之后的测量束；以及处理单元，用以基于由所述检测单元接收的所述被反射的测量束来计算水平高度，其中，所述投影单元和所述检测单元布置成当所述衬底布置在所述测量位置中时邻近所述衬底。

公开(公告)号：CN104614950B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201510075990.X

申请日：2012-03-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ,  J·J·奥坦斯 ,  E·J·M·尤森 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  W·P·范德兰特 ,  F·斯塔尔斯 ,  L·J·曼彻特 ,  E·W·博高特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。

公开(公告)号：CN104614950A

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201510075990.X

申请日：2012-03-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ,  J·J·奥坦斯 ,  E·J·M·尤森 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  W·P·范德兰特 ,  F·斯塔尔斯 ,  L·J·曼彻特 ,  E·W·博高特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： 本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。