公开(公告)号：CN101583909A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200780035599.0

申请日：2007-09-25

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·M·J·W·范赫彭 ,  V·Y·拜尼恩 ,  J·C·L·弗兰肯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  D·J·W·克朗德尔 ,  N·M·德里森 ,  W·A·索尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G01N21/15 ,  G03F7/70558

Abstract: 本发明公开一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置(1)。该装置包括光学传感器，该传感器包括传感器表面(3)和构造用于从传感器表面去除碎片(6)的去除机构(5)。因而，可以对光刻系统方便地实施剂量和/或污染物测量。

公开(公告)号：CN101583909B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200780035599.0

申请日：2007-09-25

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·M·J·W·范赫彭 ,  V·Y·拜尼恩 ,  J·C·L·弗兰肯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  D·J·W·克朗德尔 ,  N·M·德里森 ,  W·A·索尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G01N21/15 ,  G03F7/70558

Abstract: 本发明公开一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置(1)。该装置包括光学传感器，该传感器包括传感器表面(3)和构造用于从传感器表面去除碎片(6)的去除机构(5)。因而，可以对光刻系统方便地实施剂量和/或污染物测量。