公开(公告)号：CN111480113A

公开(公告)日：2020-07-31

申请号：CN201880080540.1

申请日：2018-11-27

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： 德克·S·G·布龙 ,  J·亚当斯 ,  A·本迪克塞 ,  R·雅克布 ,  A·贾奇 ,  V·V·N·N·P·科塔帕利 ,  J·H·里昂 ,  T·M·默德曼 ,  M·兰詹 ,  M·A·范德克尔克霍夫 ,  熊绪刚

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: 一种用于确定与用于光刻设备(LA)中的表膜(19)相关的状态的设备，该设备包括传感器(26、32、52、60)，其中，该传感器(26、32、52、60)被配置为测量与该表膜(19)相关的属性，该属性指示表膜状态。