公开(公告)号：CN101781526A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200910001587.7

申请日：2009-01-15

申请人： AXT公司

发明人： 谭开燮 ,  古燕 ,  王元立

IPC分类号： C09G1/18 ,  H01L21/304

CPC分类号： C09G1/04 ,  H01L21/02024

摘要： 本发明涉及用于GaAs晶片的化学抛光溶液和化学抛光方法。本发明的用于GaAs晶片化学抛光的化学抛光溶液，除水以外，其组成是二氯代异氰尿酸盐、磺酸盐、酸式焦磷酸盐、碳酸氢盐和碳酸盐。本发明的化学抛光方法，包括在化学抛光设备中，在所述抛光溶液存在下对晶片实施化学抛光。采用本发明的溶液和方法可以提高晶片质量、降低成本并能够降低对环境的污染。