公开(公告)号：CN101111575B

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200680003534.3

申请日：2006-02-01

申请人： AZ电子材料(日本)株式会社

发明人： 松尾英树 ,  一山昌章 ,  石川智规 ,  青木宏幸 ,  布鲁斯·凯克 ,  约瑟夫·奥伯兰德

IPC分类号： C09D9/00 ,  C11D7/24 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  B05D7/24 ,  C01B21/068 ,  C08G77/62 ,  H01L21/312

CPC分类号： H01L21/02087 ,  C09D7/20 ,  C09D183/16 ,  C11D7/24 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  H01L21/02222

摘要： 本发明涉及一种聚硅氮烷处理溶剂，其具有优异的溶解力和稳定性，对于作为底层的基底和聚硅氮烷的性能没有影响，具有良好的切割边缘形状，另外对于人体是高度安全的。该处理溶剂包含从由四氢化萘，对薄荷烷，对异丙基苯甲烷，α-蒎烯，1，8-桉树脑及其混合物构成的组中选出的溶剂，还涉及使用该溶剂的聚硅氮烷处理方法。该溶剂还可包含从由脂肪族烃、脂环烃及其混合物构成的组中选出的溶剂。

公开(公告)号：CN101111575A

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：CN200680003534.3

申请日：2006-02-01

申请人： AZ电子材料(日本)株式会社

发明人： 松尾英树 ,  一山昌章 ,  石川智规 ,  青木宏幸 ,  布鲁斯·凯克 ,  约瑟夫·奥伯兰德

IPC分类号： C09D9/00 ,  C11D7/24 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  B05D7/24 ,  C01B21/068 ,  C08G77/62 ,  H01L21/312

CPC分类号： H01L21/02087 ,  C09D7/20 ,  C09D183/16 ,  C11D7/24 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  H01L21/02222

摘要： 本发明涉及一种聚硅氮烷处理溶剂，其具有优异的溶解力和稳定性，对于作为底层的基底和聚硅氮烷的性能没有影响，具有良好的切割边缘形状，另外对于人体是高度安全的。该处理溶剂包含从由四氢化萘，对薄荷烷，对异丙基苯甲烷，α－蒎烯，1，8－桉树脑及其混合物构成的组中选出的溶剂，还涉及使用该溶剂的聚硅氮烷处理方法。该溶剂还可包含从由脂肪族烃、脂环烃及其混合物构成的组中选出的溶剂。