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1.

发明授权
含硅的精细图案形成用组合物以及使用它的精细图案形成方法失效转让

公开(公告)号：CN101802718B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200880106486.X

申请日：2008-09-12

申请人： AZ电子材料IP(日本)株式会社

发明人： 拉尔夫·R·达梅尔 , 康文兵 , 清水泰雄 , 石川智规

IPC分类号： G03F7/40 , H01L21/027

CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/0757 , G03F7/405

摘要： 本发明提供了一种具有高抗干蚀刻性的精细图案形成用组合物以及形成该精细图案的方法。该精细图案形成用组合物包含：含有具有硅氮烷键的重复单元的树脂；和溶剂，以及使用该组合物的精细图案形成方法。