公开(公告)号：CN102971823B

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201180033884.5

申请日：2011-07-08

Applicant: FEI公司

Inventor： C.鲁 ,  D.克劳利 ,  E.阿戈里奥

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/08 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244

CPC classification number: G01J3/0262 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0278 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/95684 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/95653 ,  H01J37/226 ,  H01J37/3005 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/31749

Abstract: 一种用于处理衬底的带电粒子束系统被公开，其包括：带电粒子镜筒；组合红外辐射和可见光照射与成像子系统；真空中的光学器件；以及精密镜台，所述精密镜台用于支撑所述衬底并且将所述衬底交替地定位在所述带电粒子镜筒和所述成像系统下面。所述带电粒子镜筒和成像系统的轴被偏移，以实现对于成像和射束处理两者而言与在单个集成组件中将是可能的工作距离相比近得多的工作距离。一种用于极准确地校准所述镜筒与成像系统之间的偏移的方法被公开，实现了在所述衬底上的精确确定的位置处的射束处理。所述成像系统能够定位所述衬底上的不能够使用所述带电粒子束看见的子表面特征。两个照射模式被公开，实现了采用红外辐射和可见光的明场成像和暗场成像两者。

公开(公告)号：CN102971823A

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN201180033884.5

申请日：2011-07-08

Applicant: FEI公司

Inventor： C.鲁 ,  D.克劳利 ,  E.阿戈里奥

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/08 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244

CPC classification number: G01J3/0262 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0278 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/95684 ,  G01N2021/8825 ,  G01N2021/95653 ,  H01J37/226 ,  H01J37/3005 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/31749

Abstract: 一种用于处理衬底的带电粒子束系统被公开，其包括：带电粒子镜筒；组合红外辐射和可见光照射与成像子系统；真空中的光学器件；以及精密镜台，所述精密镜台用于支撑所述衬底并且将所述衬底交替地定位在所述带电粒子镜筒和所述成像系统下面。所述带电粒子镜筒和成像系统的轴被偏移，以实现对于成像和射束处理两者而言与在单个集成组件中将是可能的工作距离相比近得多的工作距离。一种用于极准确地校准所述镜筒与成像系统之间的偏移的方法被公开，实现了在所述衬底上的精确确定的位置处的射束处理。所述成像系统能够定位所述衬底上的不能够使用所述带电粒子束看见的子表面特征。两个照射模式被公开，实现了采用红外辐射和可见光的明场成像和暗场成像两者。