公开(公告)号：CN111624849B

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202010114945.1

申请日：2020-02-25

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 李锡薰 ,  柳敏相 ,  薛宰勋

IPC: G03F1/54 ,  G03F1/80 ,  G03F1/26

Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法，提供一种能够将微细的图案可靠稳定地转印到被转印体上的光掩模。显示装置制造用的光掩模具有包含透光部(10)、遮光部(20)和半透光部(30)的转印用图案。透光部(10)通过使透明基板露出而成。遮光部(20)具有：在透明基板上至少形成有遮光膜的完全遮光部(21)；和与完全遮光部(21)的外缘接触形成、在透明基板上形成半透光性的边缘形成膜而成的宽度γ的边缘部(22)。半透光部(30)被遮光部(20)夹在中间，使透明基板以规定宽度α露出而成。宽度α设定成半透光部(30)的曝光光透过率小于透光部(10)的曝光光透过率。对边缘形成膜而言，对于曝光光的代表波长的光的透过率Tr为5～60％，并且对于代表波长的光的相移量为90度以下。

公开(公告)号：CN113253564A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN202110095839.8

申请日：2021-01-25

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 柳敏相 ,  裵囧洙 ,  金钟煜 ,  曹河铉

IPC: G03F1/26

Abstract: 本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法，提供具有通过利用曝光装置进行曝光而将微细的线条图案转印至被转印体上的优异的转印性能的光掩模。一种在透明基板上具备转印用图案的显示装置制造用的光掩模，其中，转印用图案包含线条图案。线条图案具有沿着外缘以宽度E形成的边缘区域、以及在边缘区域以外的部分形成的宽度C的中央区域。边缘区域具有使对于光掩模进行曝光的曝光光的相位偏移大致180度的相移作用，并且相对于曝光光具有透过率T1(％)(其中0

公开(公告)号：CN111624849A

公开(公告)日：2020-09-04

申请号：CN202010114945.1

申请日：2020-02-25

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 李锡薰 ,  柳敏相 ,  薛宰勋

IPC: G03F1/54 ,  G03F1/80 ,  G03F1/26

Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法，提供一种能够将微细的图案可靠稳定地转印到被转印体上的光掩模。显示装置制造用的光掩模具有包含透光部(10)、遮光部(20)和半透光部(30)的转印用图案。透光部(10)通过使透明基板露出而成。遮光部(20)具有：在透明基板上至少形成有遮光膜的完全遮光部(21)；和与完全遮光部(21)的外缘接触形成、在透明基板上形成半透光性的边缘形成膜而成的宽度γ的边缘部(22)。半透光部(30)被遮光部(20)夹在中间，使透明基板以规定宽度α露出而成。宽度α设定成半透光部(30)的曝光光透过率小于透光部(10)的曝光光透过率。对边缘形成膜而言，对于曝光光的代表波长的光的透过率Tr为5～60％，并且对于代表波长的光的相移量为90度以下。