光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111624849B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202010114945.1

    申请日:2020-02-25

    Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法,提供一种能够将微细的图案可靠稳定地转印到被转印体上的光掩模。显示装置制造用的光掩模具有包含透光部(10)、遮光部(20)和半透光部(30)的转印用图案。透光部(10)通过使透明基板露出而成。遮光部(20)具有:在透明基板上至少形成有遮光膜的完全遮光部(21);和与完全遮光部(21)的外缘接触形成、在透明基板上形成半透光性的边缘形成膜而成的宽度γ的边缘部(22)。半透光部(30)被遮光部(20)夹在中间,使透明基板以规定宽度α露出而成。宽度α设定成半透光部(30)的曝光光透过率小于透光部(10)的曝光光透过率。对边缘形成膜而言,对于曝光光的代表波长的光的透过率Tr为5~60%,并且对于代表波长的光的相移量为90度以下。

    光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111624849A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010114945.1

    申请日:2020-02-25

    Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法,提供一种能够将微细的图案可靠稳定地转印到被转印体上的光掩模。显示装置制造用的光掩模具有包含透光部(10)、遮光部(20)和半透光部(30)的转印用图案。透光部(10)通过使透明基板露出而成。遮光部(20)具有:在透明基板上至少形成有遮光膜的完全遮光部(21);和与完全遮光部(21)的外缘接触形成、在透明基板上形成半透光性的边缘形成膜而成的宽度γ的边缘部(22)。半透光部(30)被遮光部(20)夹在中间,使透明基板以规定宽度α露出而成。宽度α设定成半透光部(30)的曝光光透过率小于透光部(10)的曝光光透过率。对边缘形成膜而言,对于曝光光的代表波长的光的透过率Tr为5~60%,并且对于代表波长的光的相移量为90度以下。

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