公开(公告)号：CN101497700B

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN200910008702.3

申请日：2009-01-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 海津充孝 ,  胜田耕平 ,  冈庭求树 ,  梶原一郎

IPC: C08J5/00 ,  C08L45/00 ,  B29C45/00

Abstract: 本发明的课题在于提供使用成型性优异的聚合物来制造耐热性优异的成型体的方法、以及耐热性和成型性优异的光学注射成型体。本发明提供具有如下特征的成型体的制造方法和光学注射成型体：通过注射成型将环状烯烃系聚合物成型，该环状烯烃系聚合物相对于全部重复单元100重量％，具有来源于二环戊二烯等的重复单元20～50重量％、来源于特定降冰片烯系化合物的重复单元这2种重复单元。

公开(公告)号：CN101497700A

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200910008702.3

申请日：2009-01-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 海津充孝 ,  胜田耕平 ,  冈庭求树 ,  梶原一郎

IPC: C08J5/00 ,  C08L45/00 ,  B29C45/00

Abstract: 本发明的课题在于提供使用成型性优异的聚合物来制造耐热性优异的成型体的方法、以及耐热性和成型性优异的光学注射成型体。本发明提供具有如下特征的成型体的制造方法和光学注射成型体：通过注射成型将环状烯烃系聚合物成型，该环状烯烃系聚合物相对于全部重复单元100重量％，具有来源于二环戊二烯等的重复单元20～50重量％、来源于特定降冰片烯系化合物的重复单元这2种重复单元。

公开(公告)号：CN104335394B

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201380028617.8

申请日：2013-08-22

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 胜田耕平 ,  大塚巧治 ,  伊藤一聪 ,  梶原一郎 ,  宫内裕之

IPC: H01M4/13 ,  H01G11/22 ,  H01G11/52 ,  H01M2/16 ,  H01M10/0566

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08J2347/00 ,  H01G11/06 ,  H01G11/22 ,  H01G11/28 ,  H01G11/52 ,  H01G11/58 ,  H01M2/1653 ,  H01M2/1686 ,  H01M4/628 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/058 ,  H01M2220/20 ,  H01M2220/30 ,  Y02E60/13 ,  Y02T10/7011 ,  Y02T10/7022

Abstract: 本发明提供一种用于制作配置在蓄电器件的正极与负极之间的保护膜的组合物，其特征在于，含有聚合物粒子(A1)、聚合物粒子(A2)和液状介质，所述聚合物粒子(A1)100质量份中来自具有二个以上聚合性不饱和基团的化合物的重复单元的含量小于15质量份，所述聚合物粒子(A2)100质量份中来自具有二个以上聚合性不饱和基团的化合物的重复单元的含量在20质量份以上、100质量份以下。

公开(公告)号：CN104335394A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201380028617.8

申请日：2013-08-22

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 胜田耕平 ,  大塚巧治 ,  伊藤一聪 ,  梶原一郎 ,  宫内裕之

IPC: H01M4/13 ,  H01G11/22 ,  H01G11/52 ,  H01M2/16 ,  H01M10/0566

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08J2347/00 ,  H01G11/06 ,  H01G11/22 ,  H01G11/28 ,  H01G11/52 ,  H01G11/58 ,  H01M2/1653 ,  H01M2/1686 ,  H01M4/628 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/058 ,  H01M2220/20 ,  H01M2220/30 ,  Y02E60/13 ,  Y02T10/7011 ,  Y02T10/7022 ,  H01M4/13 ,  H01M10/0568

Abstract: 本发明提供一种用于制作配置在蓄电器件的正极与负极之间的保护膜的组合物，其特征在于，含有聚合物粒子(A1)、聚合物粒子(A2)和液状介质，所述聚合物粒子(A1)100质量份中来自具有二个以上聚合性不饱和基团的化合物的重复单元的含量小于15质量份，所述聚合物粒子(A2)100质量份中来自具有二个以上聚合性不饱和基团的化合物的重复单元的含量在20质量份以上、100质量份以下。

公开(公告)号：CN101180303A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200680017733.X

申请日：2006-05-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 胜田耕平 ,  福原诚二 ,  丸山洋一郎 ,  冈庭求树 ,  柴田拓 ,  诹访好 ,  梶原一郎

IPC: C07F9/50 ,  C08G61/08 ,  C07F15/00

Abstract: 本发明的金属氢化物配合物是选自钌、铑、锇、铱中的金属的氢化物配合物，具有一个以上的芳香族羧酸残基。根据本发明，可以提供在烃溶剂等低极性有机溶剂中以高浓度溶解且将碳－碳双键氢化的催化活性高的新型金属氢化物配合物。本发明的金属氢化物配合物特别适于作为环状烯烃系开环聚合物的氢化反应中的催化剂。