-
公开(公告)号:CN119110856A
公开(公告)日:2024-12-10
申请号:CN202380034562.5
申请日:2023-05-26
Applicant: JX金属株式会社
IPC: C23C14/34 , B22F1/00 , C22C1/05 , C22C1/10 , C22C5/04 , C22C19/07 , C22C32/00 , C23C14/06 , G11B5/706 , G11B5/851 , H01F10/16 , H01F41/18
Abstract: 本发明提供一种能够维持磁记录介质的磁性层中的高矫顽力,同时能够提高磁性粒子间的磁分离性的溅射靶。该溅射靶,含有Co以及Pt作为金属成分,含有NbO2作为金属氧化物成分。或者,该溅射靶,含有Co以及Pt作为金属成分,且具有含Co、Nb和O三者的相。