公开(公告)号：CN111032906B

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN201980003870.5

申请日：2019-05-23

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  増田爱美 ,  岩渊靖幸 ,  小庄孝志

IPC: G11B5/62

Abstract: 本发明涉及一种溅射靶，其含有0.05at％以上的Bi，金属氧化物的合计含量为10vol％～70vol％，剩余部分至少包含Ru。

公开(公告)号：CN109819662A

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201880003684.7

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明的溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN113817993B

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202111090388.5

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/16 ,  B22F3/14 ,  B22F3/105 ,  C22C1/05 ,  C22C32/00 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体，其中该溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN109819662B

公开(公告)日：2021-11-23

申请号：CN201880003684.7

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明的溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN119110856A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202380034562.5

申请日：2023-05-26

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  增田爱美 ,  岩渊靖幸 ,  本田和也

IPC: C23C14/34 ,  B22F1/00 ,  C22C1/05 ,  C22C1/10 ,  C22C5/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  C23C14/06 ,  G11B5/706 ,  G11B5/851 ,  H01F10/16 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明提供一种能够维持磁记录介质的磁性层中的高矫顽力，同时能够提高磁性粒子间的磁分离性的溅射靶。该溅射靶，含有Co以及Pt作为金属成分，含有NbO2作为金属氧化物成分。或者，该溅射靶，含有Co以及Pt作为金属成分，且具有含Co、Nb和O三者的相。

公开(公告)号：CN112585295B

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN201980054069.3

申请日：2019-05-23

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 增田爱美 ,  清水正义 ,  岩渊靖幸

IPC: C23C14/34 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851 ,  H01F10/16 ,  C22C1/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00

Abstract: 本发明是一种溅射靶，其含有0.05at％以上的Bi，金属氧化物的合计含量为10vol％～60vol％，剩余部分包含Co和Pt。

公开(公告)号：CN111971745B

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN201880091890.8

申请日：2018-09-21

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 增田爱美 ,  清水正义

IPC: G11B5/66 ,  G11B5/65 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明的垂直磁记录介质具有颗粒层(2)和盖层(3)作为构成记录层(1)的至少一部分的层，所述颗粒层(2)包含金属氧化物作为非磁性体且磁性体分散于所述非磁性体，所述盖层(3)形成于所述颗粒层(2)上且不包含金属氧化物，所述盖层(3)的正下方的颗粒层的与盖层的边界部分的氧化物相含有选自由Zn、W、Mn、Fe以及Mo构成的组中的至少一种。

公开(公告)号：CN112739846A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN201980060775.9

申请日：2019-05-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 岩渊靖幸 ,  佐藤敦 ,  下宿彰 ,  清水正义

IPC: C23C14/34 ,  B22F1/00 ,  C22C1/05 ,  C22C5/04 ,  G11B5/738 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明提供一种含Ru以及硼的溅射靶。该溅射靶的主要成分是Ru，含有熔点比B2O3高且含硼的复合氧化物。

公开(公告)号：CN112585295A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN201980054069.3

申请日：2019-05-23

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 增田爱美 ,  清水正义 ,  岩渊靖幸

IPC: C23C14/34 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851 ,  H01F10/16 ,  C22C1/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00

Abstract: 本发明是一种溅射靶，其含有0.05at％以上的Bi，金属氧化物的合计含量为10vol％～60vol％，剩余部分包含Co和Pt。

公开(公告)号：CN118979229A

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202410943183.4

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/02 ,  G11B5/84 ,  G11B5/73 ,  G11B5/851

Abstract: 本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体。具体为，溅镀靶含有Co及Pt作为金属成分，Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5/100～45/100，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。