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公开(公告)号:CN1537318A
公开(公告)日:2004-10-13
申请号:CN02815138.0
申请日:2002-04-05
申请人: N·V·贝卡特股份有限公司
发明人: W·C·S·德伯舍 , J·-P·莱蒙斯 , R·布洛齐 , G·戈宾 , A·G·J·布朗迪尔
CPC分类号: H01J37/3455 , H01J37/3405 , H01J37/3461
摘要: 披露一种溅射磁控管装置,包括磁场发生器(1)和目标体(4),所述目标体(4)与所述磁场发生器(1)相关联。所述磁场发生器(1)包括磁性有源元件(5-9)和调整装置(20-25),所述调整装置(20-25)适合于局部地变形或偏斜所述磁性有源元件(5-9),以致改变所述磁场发生器(1)的至少一部分相对于所述目标体(4)的位置。
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公开(公告)号:CN1537318B
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN02815138.0
申请日:2002-04-05
申请人: N·V·贝卡特股份有限公司
发明人: W·C·S·德伯舍 , J·-P·莱蒙斯 , R·布洛齐 , G·戈宾 , A·G·J·布朗迪尔
CPC分类号: H01J37/3455 , H01J37/3405 , H01J37/3461
摘要: 披露一种溅射磁控管装置,包括磁场发生器(1)和目标体(4),所述目标体(4)与所述磁场发生器(1)相关联。所述磁场发生器(1)包括磁性有源元件(5-9)和调整装置(20-25),所述调整装置(20-25)适合于局部地变形或偏斜所述磁性有源元件(5-9),以致改变所述磁场发生器(1)的至少一部分相对于所述目标体(4)的位置。
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