公开(公告)号：CN105900209B

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201380081699.2

申请日：2013-12-17

申请人： 应用材料公司

发明人： A·赫尔米希 ,  F·施纳朋伯格 ,  A·洛珀 ,  T·格贝勒

IPC分类号： H01J37/34

CPC分类号： H01J37/342 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455 ,  H01J37/3461

摘要： 提供一种用于溅射沉积设备的电极组件(120；200；300；400；700；800；900)。这种电极组件包括组件元件(210；310；410；710；810；910)，用于提供将沉积的材料和固持可旋转靶材中的至少一者；磁铁系统(230；330；430；730；830；930)，设置在组件元件(210；310；410；710；810；910)内；以及磁极片(240；241；242；340；341；342；440；441；442；740；741；742；840；841；842；940；941；942)，设置在磁铁系统与组件元件之间。进一步，描述一种用于组装具有磁铁系统(230；330；430；730；830；930)的电极组件的方法。

公开(公告)号：CN104969331B

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：CN201480007630.X

申请日：2014-01-13

申请人： 应用材料公司

发明人： 基思·A·米勒

IPC分类号： H01L21/203

CPC分类号： C23C14/35 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455

摘要： 本文提供用于磁控管组件的方法与设备。在一些实施方式中，一种磁控管组件包括：第一板，所述第一板具有第一中心轴，所述第一板能绕所述第一中心轴旋转；第一开环磁极，所述第一开环磁极耦接于所述第一板；第二板，所述第二板具有第二中心轴，所述第二板能绕所述第二中心轴旋转；以及第二开环磁极，所述第二开环磁极耦接于所述第二板，其中当所述第一开环磁极与所述第二开环磁极对准时，所述第一开环磁极与所述第二开环磁极形成闭环磁极。

公开(公告)号：CN104766779B

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：CN201510157919.6

申请日：2010-09-30

申请人： 应用材料公司

发明人： 马库斯·班德尔 ,  马卡斯·哈尼卡 ,  伊夫林·希尔 ,  法毕奥·皮拉里斯 ,  盖德·曼克

IPC分类号： H01J37/34

CPC分类号： H01J37/3405 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455

摘要： 提供一种用具有可旋转靶(20)的阴极组件(10)涂覆衬底(100)的方法。可旋转靶具有至少一个位于其内的磁体组件(25)。该方法包括将磁体组件定位在第一位置，使得其相对于平面(22)不对称地排列达预定第一时间间隔，所述平面从衬底(100)垂直延伸到可旋转靶的轴线(21)；将磁体组件定位在第二位置处达预定第二时间间隔，第二位置相对于所述平面(22)不对称地排列；并且在涂覆过程中向可旋转靶提供随时间而变化的电压。此外，提供一种涂覆器，其包括具有可旋转弯曲靶的阴极组件；以及两个定位在可旋转弯曲靶内的磁体组件，其中，两个磁体组件之间的距离能变化。

公开(公告)号：CN106086804A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610580821.6

申请日：2011-06-30

申请人： 应用材料公司

发明人： 艾伦·里奇 ,  迈克尔·S·考克斯

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  C23C16/505 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67 ,  H01L21/203 ,  H01L21/205

CPC分类号： C23C14/35 ,  C23C16/517 ,  H01J37/32651 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3411 ,  H01J37/3455 ,  C23C14/542 ,  C23C16/505 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02365 ,  H01L21/67155

摘要： 本发明的一个或多个实施例涉及沉积设备，所述沉积设备包括接地顶壁、处理腔室和等离子体源组件，所述等离子体源组件具有导电中空圆柱及实质连续接地遮护板，所述接地遮护板实质顺应所述中空圆柱的形状。

公开(公告)号：CN103526168B

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201210365147.1

申请日：2012-09-26

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 阙嘉良 ,  刘旭水 ,  白峻荣 ,  陈培侬 ,  汪业杰

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： H01J37/3455 ,  C23C14/351 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3408

摘要： 本发明公开了包括周转齿轮系统的磁性装置。所述周转齿轮系统包括被配置成旋转的中心齿轮；至少一个外围齿轮，连接至中心齿轮并且被配置成相对所于述中心齿轮旋转和平移；以及环绕所述至少一个外围齿轮并且与所述至少一个外围齿轮连接的环。所述磁性装置进一步包括与所述周转齿轮系统连接的磁性组件，所述磁性组件包括与所述至少一个外围齿轮连接的支撑件，所述支撑件的旋转轴与连接所述支撑件的至少一个外围齿轮的旋转轴同轴。本发明还公开了具有周转齿轮系统的磁性组件及其使用方法。

公开(公告)号：CN105518179A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201380079134.0

申请日：2013-10-03

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 武井応树 ,  矶部辰德 ,  清田淳也 ,  大野哲宏 ,  佐藤重光

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/54 ,  C23C14/08 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3455 ,  H01J37/347

摘要： 反应性溅射装置具备阴极装置(18)，阴极装置(18)向化合物膜的形成区域(R1)放射溅射粒子。阴极装置(18)具备：扫描部(27)，其在相对区域(R2)扫描烧蚀区域；以及靶(23)，其形成有烧蚀区域，扫描方向上的长度短于相对区域(R2)。扫描部(27)从开始位置(St)朝向相对区域(R2)扫描烧蚀区域，在开始位置(St)上，扫描方向上的形成区域(R1)的2个端部中的溅射粒子先到达的第1端部(Re1)与靶(23)的第1端部(23e1)的距离(D1)在扫描方向上为150mm以上，靶(23)的第1端部(23e1)在扫描方向上离形成区域的第1端部(Re1)近。

公开(公告)号：CN105102671A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480020113.6

申请日：2014-02-07

申请人： 欧瑞康先进科技股份公司

发明人： S.U.里伊施 ,  J.维查特

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/34 ,  H01J37/34

CPC分类号： C23C14/351 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/3492 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3455 ,  H01J37/3467

摘要： 为了在靶材的使用寿命内并且在HIPIMS操作下控制溅射靶材（9）的操作，在靶材（9）的使用寿命内，与靶材（9）相关联的磁体结构的部分I相对于靶材（9）收缩，而磁体结构的第二部分II，如果会发生的话，相对于所述后侧（7）收缩较少。由此，部分I比部分II更靠近靶材（9）的周界，两者都围绕旋转轴线（A）偏心地旋转。

公开(公告)号：CN104114741A

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：CN201280059621.6

申请日：2012-11-02

申请人： 因特瓦克公司

发明人： D·W·布朗 ,  V·沙阿 ,  T·佩德森 ,  T·布卢克

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： H01J37/3455 ,  C23C14/35 ,  C23C14/56 ,  H01J37/32779 ,  H01J37/32899 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3452

摘要： 一种溅射系统，其具有带输入端口和输出端口的处理室，和定位在所述处理室的壁上的溅射靶。可动的磁体配置被定位在所述溅射靶的后面并且在所述靶的后面往复地滑动。输送机以恒定速度连续地运输基片经过所述溅射靶，使得在任意给定时刻，若干基片在前缘和后缘之间面对所述靶。所述可动的磁体配置以至少是所述输送机的所述恒定速度几倍的速度滑动。旋转区域被限定在靶的所述前缘和后缘的后面，其中所述磁体配置当其进入所述旋转区域时减速、且当其在所述旋转区域内调转滑动方向时加速。

公开(公告)号：CN102187010B

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN200980140705.0

申请日：2009-10-14

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 仓田敬臣 ,  清田淳也 ,  新井真 ,  赤松泰彦 ,  石桥晓 ,  斋藤一也

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/08

CPC分类号： C23C14/083 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3455

摘要： 本发明的目的在于提供能够降低衬底层受到的损伤的溅射装置、薄膜形成方法以及场效应晶体管的制造方法。本发明一个实施方式的溅射装置用于使基板(10)的被处理面上形成薄膜，具有：真空槽(61)、支承机构(93)、溅射靶(80)、磁体(83)。磁体(83)用于产生等离子体，该等离子体对所述溅射面进行轰击而使该溅射面上形成有溅射粒子射出的溅射区域(80a)，并且，该磁体(83)使所述溅射区域(80a)在与所述被处理面相正对着的第1位置以及不与所述被处理面相正对着的第2位置间移动。

公开(公告)号：CN103924200A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201310746171.4

申请日：2013-12-30

申请人： 上海天马有机发光显示技术有限公司 ,  天马微电子股份有限公司

发明人： 费强 ,  徐伟齐

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： H01J37/3405 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455

摘要： 本发明公开了一种薄膜沉积装置，包括：驱动装置、溅射靶组件、位于溅射靶组件背部的至少一组旋转磁电装置，其中，旋转磁电装置包括传动装置和第一磁铁组；传动装置包括传送带、至少一对与传送带适配并设置于传送带内侧的齿轮，其中齿轮的轴向平行于溅射靶组件的表面；第一磁铁组设置于传送带的外侧；驱动装置，用于驱动齿轮旋转。通过本发明公开的一种薄膜沉积装置，可以能够适当的调试旋转磁电装置的旋转速度，从而使得溅射靶组件表面磁场具有较高覆盖率，提高了溅射靶组件的利用率。