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公开(公告)号:CN110527512A
公开(公告)日:2019-12-03
申请号:CN201910433994.9
申请日:2019-05-23
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , C07F7/18 , C07F9/50 , C07F9/6596 , C07F9/53
Abstract: 一种蚀刻剂组合物,其包括磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物:[化学式1]其中A为n价基团,L为C1-C5亚烃基,R1-R3独立地为氢、羟基、烃基或烷氧基,其中R1-R3各自存在或通过杂元素相互连接,n为2-5的整数。
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公开(公告)号:CN105566878B
公开(公告)日:2019-07-19
申请号:CN201510713662.8
申请日:2015-10-28
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
CPC classification number: C08L69/00 , C08K5/0025 , C08L63/00 , C08L2201/08 , C08L2201/10 , C08L2205/05
Abstract: 本发明提供一种高耐热性聚碳酸亚烃酯树脂组合物,所述组合物包含聚碳酸亚烃酯、环氧树脂及固化剂,所述聚碳酸亚烃酯是通过使二氧化碳和选自被卤素或烷氧基取代或者未被取代的(C2‑C10)环氧烷;被卤素或烷氧基取代或者未被取代的(C4‑C20)环烯化氧;以及被卤素、烷氧基、烷基或芳基取代或者未被取代的(C8‑C20)氧化苯乙烯中的一种或相互不同的两种以上的环氧化合物进行反应而制得的。
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公开(公告)号:CN105555400B
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201480038208.0
申请日:2014-07-15
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
Abstract: 本发明提供了在可用于制备聚氨酯、发泡剂、弹性体、密封剂、涂层材料等的环氧化物/二氧化碳的共聚中使用的双金属氰化物(DMC)催化剂,和使用所述催化剂制备的环氧化物/二氧化碳共聚物。此外,本发明提供了使用离子交换树脂而无需醇洗涤制备的双金属氰化物(DMC)催化剂,和使用所述催化剂制备的具有高纯度、高选择性和高碳酸酯基含量的环氧化物/二氧化碳共聚物。
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公开(公告)号:CN105566878A
公开(公告)日:2016-05-11
申请号:CN201510713662.8
申请日:2015-10-28
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
CPC classification number: C08L69/00 , C08K5/0025 , C08L63/00 , C08L2201/08 , C08L2201/10 , C08L2205/05
Abstract: 本发明提供一种高耐热性聚碳酸亚烃酯树脂组合物,所述组合物包含聚碳酸亚烃酯、环氧树脂及固化剂,所述聚碳酸亚烃酯是通过使二氧化碳和选自被卤素或烷氧基取代或者未被取代的(C2-C10)环氧烷;被卤素或烷氧基取代或者未被取代的(C4-C20)环烯化氧;以及被卤素、烷氧基、烷基或芳基取代或者未被取代的(C8-C20)氧化苯乙烯中的一种或相互不同的两种以上的环氧化合物进行反应而制得的。
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公开(公告)号:CN110527512B
公开(公告)日:2022-09-13
申请号:CN201910433994.9
申请日:2019-05-23
IPC: C09K13/06 , C07F7/18 , C07F9/50 , C07F9/6596 , C07F9/53
Abstract: 一种蚀刻剂组合物,其包括磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物:[化学式1]其中A为n价基团,L为C1‑C5亚烃基,R1‑R3独立地为氢、羟基、烃基或烷氧基,其中R1‑R3各自存在或通过杂元素相互连接,n为2‑5的整数。
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公开(公告)号:CN111100640B
公开(公告)日:2022-05-24
申请号:CN201911017313.7
申请日:2019-10-24
Abstract: 本发明提供了一种具有高选择比的蚀刻组合物及其制备方法,所述蚀刻组合物能够选择性地去除氮化物膜并使氧化物膜的蚀刻速率最小化。本发明还提供了一种通过使磷酸酐与下式1表示的硅烷化合物反应而制备的蚀刻组合物添加剂,所述蚀刻组合物添加剂的制备方法和包含所述蚀刻组合物添加剂的蚀刻组合物:[式1]
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公开(公告)号:CN111100640A
公开(公告)日:2020-05-05
申请号:CN201911017313.7
申请日:2019-10-24
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
Abstract: 本发明提供了一种具有高选择比的蚀刻组合物及其制备方法,所述蚀刻组合物能够选择性地去除氮化物膜并使氧化物膜的蚀刻速率最小化。本发明还提供了一种通过使磷酸酐与下式1表示的硅烷化合物反应而制备的蚀刻组合物添加剂,所述蚀刻组合物添加剂的制备方法和包含所述蚀刻组合物添加剂的蚀刻组合物:[式1]
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