公开(公告)号：CN101180721A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200680017894.9

申请日：2006-05-23

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 板仓郁夫 ,  永室正一郎

IPC: H01L21/683 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC classification number: H01L21/6831

Abstract: 本发明提供耐等离子体性和被吸附物的冷却性能优异的静电吸盘。静电吸盘的基本的构成是，在金属板(21)表面上藉由喷镀形成有绝缘体膜(22)，在该绝缘体膜(22)上经由绝缘性粘接剂层(23)接合有电介体基板(24)，该电介体基板(24)的表面作为半导体晶片等的被吸附物的盛放面，而在下表面形成有电极(25，25)。

公开(公告)号：CN100562983C

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200680017894.9

申请日：2006-05-23

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 板仓郁夫 ,  永室正一郎

IPC: H01L21/683 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC classification number: H01L21/6831

Abstract: 本发明提供耐等离子体性和被吸附物的冷却性能优异的静电吸盘。静电吸盘的基本的构成是，在表面上藉由喷镀形成有由无机材料构成的绝缘体膜(22)、在内部形成有制冷通道的金属板(21)和在该绝缘体膜(22)上经由绝缘性粘接剂层(23)接合有电介体基板(24)，所述电介体基板的所述表面中没有形成所述电极的部分与所述绝缘体膜之间也夹有所述绝缘性粘接剂，所述绝缘性粘接剂是作为填充剂含有氧化铝或氮化铝的硅酮树脂，该电介体基板(24)的表面作为半导体晶片等的被吸附物的盛放面，而在下表面形成有电极(25，25)。