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公开(公告)号：CN100519841C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200510097645.2
申请日：2000-10-12
Applicant: TOTO株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
Abstract: 将有预先内部应变的陶瓷或半金属等脆性材料的微粒向基材上变速喷射、碰撞，使脆性材料微粒变形或破碎。通过这种变形或破碎，新形成了极富活性的新生面，并经由这种新生面使结晶互相再结合，从而得到致密、剥离强度优异的复合构造物。
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公开(公告)号：CN100465340C
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200510097643.3
申请日：2000-10-12
Applicant: TOTO株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
Abstract: 将有预先内部应变的陶瓷或半金属等脆性材料的微粒向基材上变速喷射、碰撞，使脆性材料微粒变形或破碎。通过这种变形或破碎，新形成了极富活性的新生面，并经由这种新生面使结晶互相再结合，从而得到 密、剥离强度优异的复合构造物。
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公开(公告)号：CN100480217C
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200610100188.2
申请日：2000-10-12
Applicant: TOTO株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C04B41/81 , C04B41/87 , C04B41/88 , C03C17/00 , C03C17/22 , C03C17/06 , C23C24/00 , C23C24/04 , C08J7/04
Abstract: 将有预先内部应变的陶瓷或半金属等脆性材料的微粒向基材上变速喷射、碰撞，使脆性材料微粒变形或破碎。通过这种变形或破碎，新形成了极富活性的新生面，并经由这种新生面使结晶互相再结合，从而得到致密、剥离强度优异的复合构造物。
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公开(公告)号：CN100540740C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200510058845.7
申请日：2005-03-30
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: H01L41/314 , C23C24/04 , H01L41/1876
Abstract: 本发明提供一种简单方法，来制造如压电膜的膜，其中可以改善基板上的膜的粘附性。包含粒子的气悬体被喷射到基板上以使粒子粘着在其上，其中粒子附着的基板中的粘着表面的维氏硬度Hv(b)与粒子的维氏硬度Hv(p)之间的比率在0.39≤Hv(p)/Hv(b)≤3.08的范围内。粒子与基板之间的粘性因而被改善，以可靠地形成膜。本发明可满意地应用于压电膜的形成。
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公开(公告)号：CN1962555A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200610100188.2
申请日：2000-10-12
Applicant: 东陶机器株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C04B41/81 , C04B41/87 , C04B41/88 , C03C17/00 , C03C17/22 , C03C17/06 , C23C24/00 , C23C24/04 , C08J7/04
Abstract: 将有预先内部应变的陶瓷或半金属等脆性材料的微粒向基材上变速喷射、碰撞，使脆性材料微粒变形或破碎。通过这种变形或破碎，新形成了极富活性的新生面，并经由这种新生面使结晶互相再结合，从而得到致密、剥离强度优异的复合构造物。
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公开(公告)号：CN1920096B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200610125621.8
申请日：2006-08-24
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C23C24/04
CPC classification number: B05B7/1486 , B05B7/0012 , B05B7/025 , B05B7/1404 , B05B7/1472 , C23C4/00 , C23C4/02 , C23C4/04 , C23C4/073 , C23C4/18 , C23C30/00
Abstract: 本发明的成膜装置包括：气溶胶产生部，将材料颗粒分散在载气中以产生气溶胶；喷嘴，内部设有供所述气溶胶流过的内部通路，该内部通路的一端构成用于接受所述气溶胶从所述气溶胶产生部的供给的供给口，另一端构成用于向被处理材料喷出所述气溶胶的喷出口；窄路，设在所述内部通路中且流路面积比其上游侧的流路面积窄；和冲撞部，设在所述窄路的下游侧且受到通过所述窄路的所述气溶胶流的冲撞，因此，凝集颗粒被粉碎，以微粒化的状态从喷嘴供给，可在被处理材料上形成薄的均匀的膜。
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公开(公告)号：CN1920095A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200610125622.2
申请日：2006-08-24
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B05D1/02 , B05B7/0012 , B05B12/36
Abstract: 本发明的成膜装置包括：成膜室，用于进行成膜；排气装置，与所述成膜室连接并将该成膜室内的气体排到外部；支架，设在所述成膜室内并保持被处理材料；喷嘴，设在所述成膜室内，具有形成狭缝状的喷出口，并且从所述喷出口向所述被处理材料喷射包含材料颗粒的气溶胶，从而在所述被处理材料上形成由所述材料颗粒构成的膜；和遮蔽部件，设在所述喷出口的长度方向的侧方并覆盖从该喷出口向所述被处理材料喷射的所述气溶胶的喷射流的侧方，因此，可抑制排气流引起的气溶胶流的紊乱，可均匀地形成膜。
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公开(公告)号：CN1920094A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200610125620.3
申请日：2006-08-24
Applicant: 兄弟工业株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B05D1/02 , C23C24/04 , H01L41/314
Abstract: 一种膜形成装置，具有：成膜室，用于进行成膜；喷射机构，通过在该成膜室内向基板喷射含材料粒子的气溶胶，在该基板上形成由前述材料粒子构成的膜；测量室，与前述成膜室连通；测量机构，测量前述测量室内的前述膜的厚度；压力调整机构，与前述成膜室及前述测量室连接，控制该成膜室及测量室的内压；传送带，在前述成膜室和前述测量室之间传送前述基板；以及隔断部，隔断前述成膜室和前述测量室。由此可保持测量室的内部清洁，不受气溶胶的污染，维持测量精度，在成膜工艺过程中，简单而又精确地测量膜厚，并向成膜条件反馈。
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