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公开(公告)号：CN110364456B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201910216787.8
申请日：2019-03-21
申请人： 显示器生产服务株式会社
发明人： 朴庸硕
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明涉及一种基板处理装置，防止存在于腔室的处理空间的流体通过旋转轴被贯通的部位流出到腔室外部。该基板处理装置包括：腔室，内部形成有处理基板的处理空间；旋转轴，从腔室的外侧贯通腔室，配置在处理空间中；支撑架，设置在腔室的内侧壁，中心处设置有由旋转轴贯通的第一贯通部；盖壳体，配置为从支撑架向腔室的内部空间的方向隔开一定距离，中心处设置有由旋转轴贯通的第二贯通部，用于在处理空间与支撑架一起支撑旋转轴；密封盖，配置在旋转轴的外周面，并配置在第二贯通部的内部空间；第一密封构件，一端配置为接触旋转轴的外周面，另一端配置在密封盖的外侧面和密封盖的内侧面之间，防止处理空间的流体沿着旋转轴流出到腔室的外部。
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公开(公告)号：CN115193768A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210163228.7
申请日：2022-02-22
申请人： 显示器生产服务株式会社
摘要： 本发明提供一种衬底清洗装置，其可以使用旋转的滚刷来去除衬底处存在的异物，可以清洗从衬底吸附到滚刷上的异物，可以防止在清洗滚刷时从滚刷分离的异物传递到清洗后的衬底。为此，本发明公开了以下特征，包括：刷单元，具有滚刷，滚刷在与衬底的下部表面接触的状态下在旋转的同时清洗衬底的下部表面处存在的异物；清洗单元，清洗滚刷处存在的异物，清洗单元包括：腔室，在内部具有清洗空间，设置成包围滚刷的一部分，使得滚刷可以与衬底的下部表面接触；喷射模块，在清洗空间内与滚刷隔开配置，朝向滚刷的下部喷射清洗液；隔板部件，至少一部分配置在滚刷和喷射模块之间，防止从喷射模块喷射的清洗液撞击滚刷时产生的雾的扩散。
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公开(公告)号：CN112824263A
公开(公告)日：2021-05-21
申请号：CN202011180209.2
申请日：2020-10-29
申请人： 显示器生产服务株式会社
IPC分类号： B65G13/11
摘要： 本发明公开了一种基板传送装置用接地单元、基板传送装置用接地单元的组装方法和包括接地单元的基板传送装置。基板传送装置用接地单元包括：支撑块，结合到支撑框架，支撑框架设置有用于传送基板的多个轴单元；支撑板，由导电性材料制成，其长度方向设置为沿着排列有多个轴单元的基板的传送方向，在结合到支撑块的状态下接地；以及电刷，由导电性材料制成，结合到支撑板，沿支撑板的长度方向配置，同时接触多个轴单元。
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公开(公告)号：CN110918522A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201910797652.5
申请日：2019-08-27
申请人： 显示器生产服务株式会社 , 泰光精密材料有限公司
摘要： 本发明涉及提高耐久性、削减使用时的过载、更换和维护便利的基板冲洗装置及其设置方法。基板冲洗装置包括：辊刷组件，第一支撑部，第二支撑部，第一旋转部，第二旋转部，以及施压部。辊刷组件具有基管，沿中心轴线方向形成有贯通孔；在基管的外周表面的刷；引入塞，分别耦合到基管的两端并密闭贯通孔。第一、第二支撑部分别间隔配设在辊刷组件的两端。第一旋转部耦合到辊刷组件一端的引入塞，与辊刷组件一体旋转。第二旋转部耦合到辊刷组件另一端的引入塞，与辊刷组件一体旋转。施压部一端耦合到第二支撑部，另一端与第二旋转部耦合，向辊刷组件另一端的引入塞的方向对第二旋转部加压，使第二旋转部耦合到辊刷组件另一端的引入塞。
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公开(公告)号：CN109585653A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811138296.8
申请日：2018-09-28
申请人： 三星显示有限公司 , 威海电美世光机电有限公司
CPC分类号： B01F3/2261 , B01F3/1214 , B01F3/223 , B01F2003/125 , C07D401/14 , C07D403/04 , H01G9/2013 , H01L51/0025 , H01L51/0067 , H01L51/0072 , H01L51/0077 , H01L51/56
摘要： 有机材料纯化组合物、混合组合物和纯化有机材料的方法，该有机材料纯化组合物包括：离子液体，在该离子液体中阳离子和阴离子相组合；和有机溶剂，其中有机溶剂包括醇或酮。
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公开(公告)号：CN101498902B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910005261.1
申请日：2009-01-21
申请人： 显示器生产服务株式会社
IPC分类号： H01L21/677 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67718 , G02F1/1303 , H01L21/6776
摘要： 本发明公开一种基板输送装置，其设计为提供提高在基板输送期间工作液(显影液)的液体回收效率的倾斜输送功能。所述基板输送装置包括用于输送基板的第一输送单元、与所述第一输送单元的一端间隔的第二输送单元、设置在所述第一输送单元及所述第二输送单元之间并且提供能够在基板输送期间回收附着在基板上的显影液的倾斜输送的第三输送单元，及用于控制所述第三输送单元的倾斜输送角度及连接状态的输送控制器。
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公开(公告)号：CN101218859B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200680025252.3
申请日：2006-07-06
申请人： 显示器生产服务株式会社
发明人： 李元默
IPC分类号： H01L21/302 , H05H1/34
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/321
摘要： 本发明涉及一种具备复合天线线圈组的等离子体反应装置。这种等离子体反应装置包括：反应室，其上部设置有圆柱状介电窗，且通过等离子体反应来处理晶片；复合天线线圈组，其设置于所述介电窗的外部及上部，用于产生射频磁场(RF magnetic field)，且通过所述介电窗向所述反应室内施加射频磁场，藉以诱导射频电场(RF electricfield)；射频电源供给单元，其用于向所述反应室下部(放置晶片的支架)及复合天线线圈组供给射频电源(Radio Frequency)，以使反应室下部(Wafer and Pedestal)保持负电位带电状态，并使所述复合天线线圈组产生时变的磁场。
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公开(公告)号：CN101639316B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200910143060.8
申请日：2009-05-26
申请人： 显示器生产服务株式会社
IPC分类号： F26B21/12
摘要： 本发明提供一种通过向平板显示元件用基板喷射干燥用空气的方式可容易地对所述基板进行干燥的气刀装置。所述气刀装置包括：主体，其内部设置有空气流入口；第一腔室，其设置在所述主体内侧，并接收由所述空气流入口供给的干燥用空气；第二腔室，其与第一腔室之间设有所述空气流入口，从而与第一腔室相隔配置；吐出单元，其包括用于向外部喷射所述第一腔室和第二腔室内干燥用空气的第一吐出口和第二吐出口；以及流量控制机构，其用于控制从所述空气流入口供给到所述第一腔室和第二腔室的干燥用空气的供给量。
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公开(公告)号：CN1990409B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200610161758.9
申请日：2006-12-19
申请人： 显示器生产服务株式会社
发明人： 朴庸硕
CPC分类号： H01J61/35 , H01J9/20 , H01J9/223 , H01J65/046
摘要： 本发明涉及一种成膜用组合物、利用该组合物制造的荧光灯及其制造方法，尤其涉及一种能够实施湿式覆膜的由金属氧化物、结合剂、粘合剂及溶剂构成的荧光灯成膜用组合物，并通过湿式覆膜法将上述成膜用组合物涂敷在对应于荧光灯外部电极的区域后，经烧成处理形成保护膜的荧光灯及其制造方法。
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公开(公告)号：CN100568439C
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200710145815.9
申请日：2007-08-28
申请人： 显示器生产服务株式会社
发明人： 李永哲
摘要： 本发明涉及一种可去除灯管涂层的装置及其方法。所述用于去除灯管涂层的方法包括：通过可形成及去除涂层的涂层去除装置，在灯管内部涂敷荧光体的步骤；通过所述涂层去除装置，将经过所述涂敷步骤涂有荧光体的灯管的端部，浸渍在溶剂中的步骤；以及将干燥空气注入到经所述浸渍步骤浸渍过的灯管内部，以挤出所述溶剂而去除荧光体的涂层去除步骤。所述用于去除灯管涂层的方法，通过化学处理方式，能够有效地去除涂敷作业后残留在灯管中的荧光体。另外，在完成涂层去除步骤后，进行超声波清洗步骤，因此可以更为有效地去除荧光灯的涂层。
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