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    一种超高纯均匀型硅溶胶的制备方法
    1.
    发明授权
    一种超高纯均匀型硅溶胶的制备方法 有权

    公开(公告)号：CN111717923B

    公开(公告)日：2023-04-14

    申请号：CN202010686847.5

    申请日：2020-07-16

    申请人： 深圳市科玺化工有限公司

    发明人： 杨兴旺 ,  郭建学 ,  张倩

    IPC分类号： C01B33/14 ,  B82Y40/00

    摘要： 本申请提供一种超高纯均匀型硅溶胶制备方法，用于解决现有的硅溶胶离子含量高、均匀性差的技术问题。本申请的制备方法包括如下步骤：将超纯水加热后，加入催化剂，搅拌，加热至95℃。缓缓加入定量光伏硅粉，得到硅溶胶种子溶液；将钾水玻璃用超纯水稀释至含二氧化硅质量分数为3～10%，过阴阳离子交换树脂，得到活性硅酸；在光伏硅粉中，加入超纯水，用搅拌机搅拌至均匀流体硅粉，待用；将硅溶胶种子溶液进行加热，将活性硅酸和流体硅粉用蠕动泵按先快后慢的速率交叉滴入硅溶胶种子溶液中，在反应过程中用蠕动泵按先快后慢的速率滴加催化剂，控制二氧化硅溶胶的pH值在11.50～12.50，反应时间8～40h，停止加热，反应结束，过滤得到超高纯均匀型硅溶胶。

    一种长寿命的水基除油防锈清洗剂
    4.
    发明授权
    一种长寿命的水基除油防锈清洗剂 有权

    公开(公告)号：CN103710720B

    公开(公告)日：2016-02-24

    申请号：CN201310753497.X

    申请日：2013-12-31

    申请人： 深圳市科玺化工有限公司

    发明人： 郭昊

    IPC分类号： C23G1/26

    摘要： 本发明涉及一种清洗防锈一体化的长寿命水基清洗剂及其制备方法，清洗剂由以下配方按质量百分比构成：生物可降解的非离子表面活性剂复配物的含量为65％～88％质量，缓蚀防锈复合剂含量为12％～25％质量；助溶剂复配物的含量为0％～10％质量。本发明的一种长寿命水基清洗剂是采用表面活性剂的乳化、分散、增溶特性，优化其配伍效应，确定合理的复合剂HLB值，实现复合表面活性剂最佳乳化分散效能发挥，达到长寿命效果。

    一种单剂型光合染发剂
    5.
    发明公开
    一种单剂型光合染发剂 审中-实审

    公开(公告)号：CN116236407A

    公开(公告)日：2023-06-09

    申请号：CN202310054768.6

    申请日：2023-02-03

    申请人： 深圳市科玺化工有限公司

    发明人： 李晓峰 ,  刘俞廷

    IPC分类号： A61K8/58 ,  A61K8/44 ,  A61Q5/10

    摘要： 本发明涉及一种稳定的单剂型光合染发剂。本发明的单剂型光合染发剂包含有乙酰蛋氨酸银，精氨酸，赖氨酸。当乙酰蛋氨酸银与精氨酸和赖氨酸的质量比为4:0.1～2:0.1～2时，乙酰蛋氨酸银在水中能完全溶解并呈透明状态，即使在光照条件下也不会发生反应变黑，但当涂抹于白发上并在日晒的条件下就会很快的变黑使白发染色。

    液体粘接蜡
    6.
    发明授权
    液体粘接蜡 有权

    公开(公告)号：CN113308221B

    公开(公告)日：2022-09-20

    申请号：CN202110645219.7

    申请日：2021-06-09

    申请人： 深圳市科玺化工有限公司

    发明人： 杨兴旺 ,  郭建学

    IPC分类号： C09J193/00 ,  C09J161/06 ,  C09J193/04 ,  C09J155/02 ,  C09J125/06 ,  C09J167/00 ,  C09J11/08

    摘要： 本发明提供一种液体粘接蜡及其制备方法。应用于半导体或蓝宝石等材料研磨、抛光加工过程中的暂时性粘接剂和切割时的表面保护剂，是一款既可以使用自动螺旋装置、也可以采用喷涂方式上蜡的高接着力液体蜡。特点是可以喷涂上蜡，上蜡的方式有了更多的选择；在常温下用刮刀（铲刀）剥离卸片，下片容易。所述液体粘接蜡包括以下组分：树脂30~50份，复合蜡20~30份，醇类溶解剂40~50份，酯类溶解剂1~5份，烷烃类助剂1~5份，交联助剂0.1~1份。本发明提供的液体粘接蜡，无杂质，不易产生气泡，粘接力强，耐pH值4~11的化学品侵蚀，研磨抛光过程中，晶片不会出现移位现象，满足20~70℃加工温度。

    一种石英晶片蚀刻添加剂及其制备方法
    7.
    发明授权
    一种石英晶片蚀刻添加剂及其制备方法 有权

    公开(公告)号：CN113621375B

    公开(公告)日：2022-07-01

    申请号：CN202110873612.1

    申请日：2021-07-30

    申请人： 深圳市科玺化工有限公司

    发明人： 冉有仁 ,  刘三川

    IPC分类号： C09K13/08 ,  C09K13/00

    摘要： 一种石英晶片蚀刻添加剂，是由以下组分按照重量百分比组成：相态稳定溶剂12%～25%，渗透剂1%～5%，分散剂4%～8%，螯合缓蚀剂20%～30%，润湿剂15%～25%,破泡剂8～12%，凹凸点抑制剂10%～20%，沉降剂1%～2%。本发明添加剂配制的蚀刻液去除率高且速率稳定，寿命长，常温浸泡即可完成蚀刻作业，蚀刻后晶片易水洗干净；添加本发明添加剂的蚀刻液，蚀刻后的晶片表面显微形貌平整光滑，厚度公差小于等于0.2um，添加剂良好的分散润湿和沉降功能可降低蚀刻后蚀刻粉渣不均匀、悬浮于溶液中、吸附于晶片表面形成的刮伤、凹凸点问题，本添加剂可有效抑制酸挥发及蚀刻酸损耗，气味温和无刺激。

    一种抗菌防臭洗衣液组合物及其制备方法
    9.
    发明公开
    一种抗菌防臭洗衣液组合物及其制备方法 无效

    公开(公告)号：CN111234947A

    公开(公告)日：2020-06-05

    申请号：CN202010131958.X

    申请日：2020-02-28

    申请人： 深圳市科玺化工有限公司

    发明人： 李晓峰

    IPC分类号： C11D1/835 ,  C11D1/86 ,  C11D3/60 ,  C11D3/50 ,  C11D3/48 ,  C11D3/37 ,  C11D3/20

    摘要： 本发明涉及一种抗菌防臭洗衣液组合物及其制备方法。一种抗菌防臭洗衣液组合物，由如下原料组成：非离子双子表面活性剂，椰油烷基二羟乙基甲基氯化季铵盐乙氧基化物，3-（三甲氧基硅烷基）丙基二甲基十八烷基氯化铵，聚醚硅油，柠檬酸，螯合分散剂，香精，余量为去离子水。本发明配方组合物去污力强，同时具有抗菌防臭的作用，并赋予衣物穿着舒适感。

    用于硅晶圆基材的复合磨料化学机械抛光浆料及制备方法
    10.
    发明公开
    用于硅晶圆基材的复合磨料化学机械抛光浆料及制备方法 无效

    公开(公告)号：CN111040640A

    公开(公告)日：2020-04-21

    申请号：CN202010012575.0

    申请日：2020-01-07

    申请人： 郑州中科新兴产业技术研究院 ,  深圳市科玺化工有限公司

    发明人： 张延强 ,  李辉 ,  马科 ,  贾永高 ,  郭建学 ,  刘三川

    IPC分类号： C09G1/02

    摘要： 本发明提供了一种用于硅晶圆基材的复合磨料化学机械抛光浆料及制备方法，包括以下重量百分比的组分：氧化铝/二氧化硅复合磨料0.5%-15wt%、0.3%-7.5wt%配合剂、1.5%-12wt%氧化剂、0.004%-0.05wt%有机胺化合物、pH调节剂，其余为水。本发明通过简单的水热-高温矿化法制备得到片状氧化铝，通过有机硅源水解法制备得到球形二氧化硅和非球形二氧化硅，通过片状氧化铝与球形二氧化硅或非球形二氧化硅组成复合磨料，配制成化学机械抛光浆料，为提高抛光效率，降低表面损伤率，提高晶圆全局平坦化提供了一种可行性技术路线。