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公开(公告)号：CN116083180B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202211387392.2
申请日：2022-11-08
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种芯片切割清洗剂组合物，属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于半导体领域的化学品制剂。质量百分数之和为100%计，包括1‑5%的氧化胺双子表面活性剂A，5‑10%的有机溶剂，1‑5%的分散剂，0.5‑2%的螯合剂，0.01‑0.1%的pH调节剂，余量为高纯水。本发明通过氧化胺双子表面活性剂与有机溶剂、螯合剂和分散剂混配，可以将芯片切割过程中产生的硅粉清洗干净，通过氧化胺的特殊结构对金属层起到保护作用，并能冷却切割刀和芯片摩擦产生的热量，且易清洗无残留。
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公开(公告)号：CN118625612A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202411055863.9
申请日：2024-08-02
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 本发明公开了一种半导体用光刻胶清洗剂，属于清洗剂技术领域。该光刻胶清洗剂所含组分及其各组分所占重量百分数为：5‑20%有机碱、40‑70%极性非质子溶剂、10‑30%有机醇醚、0.1‑2.5%缓蚀剂，其中，所述缓蚀剂为带有两个席夫碱基团以及一个吡啶基团的新型Gemini表面活性剂，该Gemini表面活性剂结构新颖，具有较低的临界胶束浓度，可通过物理吸附及化学吸附的双重作用在金属表面起到良好的缓蚀效果。
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公开(公告)号：CN118562564A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410798232.X
申请日：2024-06-20
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种新型显示用玻璃基板环保清洗液。该清洗剂由无机碱性物质、醇醚类有机助剂、非离子表面活性剂、双子表面活性剂复配和水组成，其不仅可以有效去除玻璃基板表面的指纹、灰尘、玻璃粉、油脂及其他有机或无机固体粒子，且泡沫低，易清洗不残留，还不含NP和OP类表面活性剂，能有效保护环境。
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公开(公告)号：CN116219444B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202310181275.9
申请日：2023-03-01
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于新能源柱状电池铝壳制造过程的清洗剂，属于新能源电池制造领域，其是以无机碱、缓蚀剂、双子型表面活性剂、助洗剂、增溶剂为原料制成。本发明通过无机碱和相应助剂的搭配形成稳定持久的弱碱环境，在提高清洗力的同时能有效避免过高碱性导致的壳体腐蚀，同时通过葡萄糖类双子型表面活性剂与助洗剂和增溶剂的协同作用，可高效除去常见类型的拉伸油，其易清洗、不残留，不易氧化壳体，且持久耐用、环保高效，可同时解决大规模连续生产的良率问题。
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公开(公告)号：CN117926381A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202410117182.4
申请日：2024-01-29
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
IPC分类号： C25F1/04
摘要： 本发明公开了一种用于OLED精细金属掩膜版清洗的电解清洗剂组合物，按质量百分比计，该组合物由以下组分构成：5‑15%强电解质、1‑10%螯合剂、1‑5%有机溶剂、0.1‑5%分散剂、0.1‑5%Gemini型聚乙二醇‑聚乳酸‑磷酸酯表面活性剂，余量为水。本发明所用表面活性剂具有优异的缓蚀性能，在碱溶液中能保证精细金属掩膜版不被腐蚀，有效提高了所得组合物的析氢效率，增强了其清洗能力，避免掩膜版长期接触氧气发生氧化，并使其具有较好水溶性、低刺激性、强润湿性、良好的电化学稳定性、低表面张力、优异的乳化分散性，从而适用于清洗OLED掩膜版表面及蒸镀孔内的灰尘、Particle、油污、有机发光材料以及包装残留。
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公开(公告)号：CN115181545B
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202210863467.3
申请日：2022-07-22
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
IPC分类号： C09K3/14
摘要： 本发明公开了一种用于半导体制程的悬浮液，用于半导体晶圆制造中。该悬浮液通过特定的阴‑非离子表面活性剂复配，产生协同效应，配合有机碱、有机溶剂、增稠剂优化组合，极大的提高体系表面性能，水溶性好，使用寿命长，与现有直接添加固体增稠剂的方法相比，使用方便、对产品良率波动影响小，材料组成对环境友好，能够满足半导体制程的工艺要求。
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公开(公告)号：CN116536113A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310555973.0
申请日：2023-05-17
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于切割后新能源电池铝壳表面污染物清洗的组合物，属于新能源电池制造领域。按质量百分数之和为100%计，所述组合物包括5‑10%的阴离子长链脂肪酸磷酸酯钠盐聚醚表面活性剂、3‑7%的分散剂、5‑15%的无机碱、5‑10%的螯合剂，余量为高纯水。本发明通过将阴离子长链脂肪酸磷酸酯钠盐聚醚表面活性剂与无机碱、分散剂、螯合剂的混配，可以高效去除电池铝壳在冲压、切割过程中残留的拉伸油、铝粉等污染物，并且对壳体不腐蚀不氧化，其易清洗、不残留，解决了市面上电池铝壳清洗存在的腐蚀氧化及产品良率不高的问题。
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公开(公告)号：CN116219444A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310181275.9
申请日：2023-03-01
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于新能源柱状电池铝壳制造过程的清洗剂，属于新能源电池制造领域，其是以无机碱、缓蚀剂、双子型表面活性剂、助洗剂、增溶剂为原料制成。本发明通过无机碱和相应助剂的搭配形成稳定持久的弱碱环境，在提高清洗力的同时能有效避免过高碱性导致的壳体腐蚀，同时通过葡萄糖类双子型表面活性剂与助洗剂和增溶剂的协同作用，可高效除去常见类型的拉伸油，其易清洗、不残留，不易氧化壳体，且持久耐用、环保高效，可同时解决大规模连续生产的良率问题。
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公开(公告)号：CN115710707A
公开(公告)日：2023-02-24
申请号：CN202211431747.3
申请日：2022-11-16
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种镁银合金和镱金属清洗剂及清洗方法，开发了一款在较低的成本下，可以高效的溶解Mask、坩埚上残留的镁银合金、镱等金属，同时不对Mask等基底产生损失，且减少沉淀产生的金属清洗剂。该清洗剂由2‑10%的氧化剂，3‑12%的氧化物溶解剂，3‑15%的pH调节剂，0.1‑1%的缓蚀剂，0.1‑1%的金属螯合剂组成，其余为水。本发明提供的镁银合金、镱金属清洗剂可在较低的成本下，高效的溶解Mask、坩埚上残留的镁银合金、镱等金属，同时不对Mask等基底产生损失，且减少沉淀产生。
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公开(公告)号：CN115651777A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211535038.X
申请日：2022-12-02
申请人： 福建省佑达环保材料有限公司
IPC分类号： C11D1/92 , C11D3/04 , C11D3/20 , C11D3/30 , C11D3/60 , C07C303/08 , C07C303/32 , C07C309/42 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B13/00 , G02F1/1335
摘要： 本发明公开了一种用于CF Rework彩膜工艺中的返工液及其清洗工艺，该返工液是由无机碱、有机胺、有机助剂、表面活性剂及高纯水组成。本发明的返工液可以有效去除CF工序中玻璃基板上的不良光刻胶，具有一次剥离，光刻胶不回粘，药液稳定性好，使用寿命长等优点，且挥发性小，低泡，易漂洗，对环境无污染。
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