一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

    公开(公告)号:CN104674175B

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201510067746.9

    申请日:2015-02-09

    申请人: 常州工学院

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56

    摘要: 本发明公开了一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机,属于真空镀膜设备领域。本发明包括真空室、开卷机构、收卷机构、设于真空室内的冷辊、纠偏装置、两个或两个以上的回转换靶装置、以及与每个回转换靶装置位置相对应的上下两面开口的阴极小室,开卷机构与换向辊之间、收卷机构与换向辊之间各设有一组纠偏装置;阴极小室分布于冷辊包覆有基带的圆周面上;极靶座板旋转到对应的阴极小室下方,并向外伸出将靶芯嵌入阴极小室内,开卷机构和收卷机构带动基带往复运动。本发明在不打开镀膜真空室的情况下即可及时更换阴极靶,并利用基材往复运动实现多层膜层的镀制,大大提高了镀膜机镀多层功能膜的效率;同时,设备结构紧凑,占地空间小。

    一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

    公开(公告)号:CN104674175A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201510067746.9

    申请日:2015-02-09

    申请人: 常州工学院

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56

    摘要: 本发明公开了一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机,属于真空镀膜设备领域。本发明包括真空室、开卷机构、收卷机构、设于真空室内的冷辊、纠偏装置、两个或两个以上的回转换靶装置、以及与每个回转换靶装置位置相对应的上下两面开口的阴极小室,开卷机构与换向辊之间、收卷机构与换向辊之间各设有一组纠偏装置;阴极小室分布于冷辊包覆有基带的圆周面上;极靶座板旋转到对应的阴极小室下方,并向外伸出将靶芯嵌入阴极小室内,开卷机构和收卷机构带动基带往复运动。本发明在不打开镀膜真空室的情况下即可及时更换阴极靶,并利用基材往复运动实现多层膜层的镀制,大大提高了镀膜机镀多层功能膜的效率;同时,设备结构紧凑,占地空间小。

    一种真空镀杀菌膜
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108690952B

    公开(公告)日:2020-11-13

    申请号:CN201710237481.1

    申请日:2017-04-12

    发明人: 朱常锦 朱元义

    摘要: 本发明公开了一种真空镀杀菌膜,包括依次连接的金属基底、间隔杀菌层和保护层,所述的间隔杀菌层至少为一层,所述的间隔杀菌层包括间隔层和与所述的间隔层连接的杀菌层,所述的间隔层的外侧与基底连接,所述的杀菌层的外侧与保护层连接,所述的杀菌层材料为BiXSe3,X为Cu或Ag。本发明提出的杀菌膜的杀菌层使用BiXSe3作为材料,Bi为五价阳离子,具有较强的氧化性,可对常见的细菌进行氧化,达到杀菌效果,而X离子利用其外层S1电子轨道与Bi的6S26P3轨道的电荷协同作用,极大提升了Bi离子的杀菌速率和杀菌范围,从而使杀菌膜具有杀菌速度快、杀菌范围广以及无副作用的优点。

    一种真空镀杀菌膜
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108690952A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201710237481.1

    申请日:2017-04-12

    发明人: 朱常锦 朱元义

    摘要: 本发明公开了一种真空镀杀菌膜,包括依次连接的金属基底、间隔杀菌层和保护层,所述的间隔杀菌层至少为一层,所述的间隔杀菌层包括间隔层和与所述的间隔层连接的杀菌层,所述的间隔层的外侧与基底连接,所述的杀菌层的外侧与保护层连接,所述的杀菌层材料为BiXSe3,X为Cu或Ag。本发明提出的杀菌膜的杀菌层使用BiXSe3作为材料,Bi为五价阳离子,具有较强的氧化性,可对常见的细菌进行氧化,达到杀菌效果,而X离子利用其外层S1电子轨道与Bi的6S26P3轨道的电荷协同作用,极大提升了Bi离子的杀菌速率和杀菌范围,从而使杀菌膜具有杀菌速度快、杀菌范围广以及无副作用的优点。