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公开(公告)号：CN1283850C
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN02814628.X
申请日：2002-07-26
申请人： 阿鲁米纳表面技术有限及两合公司
CPC分类号： C25D17/06 , C25D17/004 , C25D17/16 , C25D17/20
摘要： 一种从金属有机的含烷基铝络合物的电解液中将铝或铝合金电沉积到待镀层的材料上的装置，该装置包括一个具有支承块和输送支柱的支架框、至少一个电镀滚筒、至少一个用于电镀滚筒的驱动单元和一个或多个用于电镀滚筒的支架臂，其特征在于，所述驱动单元(3)设置在一个封闭的、气密的外壳里面，所述电镀滚筒(13)具有一个打孔的内管(15)，该内管沿着电镀滚筒纵轴设置并侧面敞开，其中侧面开孔直接设置在电解液容器中电解液供给的对面，所述电镀滚筒(13)由一种材料制成，该材料不仅在含水的而且在金属有机的电解液中耐受直到110℃的温度。
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公开(公告)号：CN1656256A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN03812046.1
申请日：2003-05-13
申请人： 阿鲁米纳表面技术有限及两合公司
发明人： K-D·梅勒
摘要： 为生产电解质溶液，该电解质溶液由三烷基铝AlR3，M1AlR4，M2AlR4和芳族烃组成，在25℃以下的温度下，在芳族烃中，将M1OR和M2OR的混合物与三烷基铝AlR3反应。从获得的混合物中分离出M1AlR4/M2AlR4，并通过芳族烃和AlR3的加入获得用于铝－镁合金电化学沉积用的即可使用的电解质。
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公开(公告)号：CN101573476A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200780049444.2
申请日：2007-10-16
申请人： 阿鲁米纳表面技术有限及两合公司
摘要： 本发明涉及用于从疏质子溶剂电沉积铝的电解质，该电解质在有机溶剂中含有式N(R1)4X·(m－n－o)Al(C2H5)3·nAlR23·oAlR33(I)的化合物，其中R1是C1至C4烷基，X是F、Cl或Br，m等于1至3，优选1.7至2.3，n等于0.0至1.5，优选0.0至0.6，o等于0.0至1.5，优选0.0至0.6，R2和R3是C1或C3至C6烷基，其中R2不同于R3。本发明还涉及制备该电解质的方法、涂覆方法和涂覆的材料部件。
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公开(公告)号：CN1535244A
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN02814666.2
申请日：2002-07-26
申请人： 阿鲁米纳表面技术有限及两合公司
摘要： 本发明涉及一种用于制备氢化钠的方法，其中向加热至高于氢化钠的分解温度420℃的温度的，在无氧无水条件下含有氢氧化钠或由一种或多种碱金属氢氧化物组成的混合物的熔体中，引入一种含碳的化合物，并随后在反应介质的外面，在≤420℃的温度下将反应产物沉淀出来。此外，本发明还涉及一种用于纯化含杂质的氢化钠的方法，其中将含杂质的氢化钠在无氧无水条件下引入一种加热至高于氢化钠的分解温度420℃的温度的，含有一种或多种碱金属氢氧化物的熔体中，并随后将其在熔体介质的外面，在≤420℃的温度下沉淀出来。
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公开(公告)号：CN1533451A
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN02814628.X
申请日：2002-07-26
申请人： 阿鲁米纳表面技术有限及两合公司
CPC分类号： C25D17/06 , C25D17/004 , C25D17/16 , C25D17/20
摘要： 一种从金属有机的含烷基铝络合物的电解液中将铝或铝合金电沉积到待镀层的材料上的装置，该装置包括一个具有支承块和输送支柱的支架框、至少一个电镀滚筒、至少一个用于电镀滚筒的驱动单元和一个或多个用于电镀滚筒的支架臂，其特征在于，所述驱动单元(3)设置在一个封闭的、气密的外壳里面，所述电镀滚筒(13)具有一个打孔的内管(15)，该内管沿着电镀滚筒纵轴设置并侧面敞开，其中侧面开孔直接设置在电解液容器中电解液供给的对面，所述电镀滚筒(13)由一种材料制成，该材料不仅在含水的而且在金属有机的电解液中耐受直到110℃的温度。
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公开(公告)号：CN1860257A
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN200480028047.3
申请日：2004-09-09
申请人： 阿鲁米纳表面技术有限及两合公司
摘要： 本发明的对象是一种用来电镀沉积铝镁合金的电解液，其含有至少一种通式为MAlR4的有机铝络合物或它们的混合物和烷基镁化合物，在此M为Na、K、Rb或Cs和R为C1－C10烷基，优选为C1－C4烷基。本发明的其他的对象是电解液的制备方法、镀覆方法、电解液的应用以及电解套装盒。
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