用于治疗性处理的装置和用于控制处理装置的方法

    公开(公告)号:CN104168954A

    公开(公告)日:2014-11-26

    申请号:CN201380014027.X

    申请日:2013-03-14

    IPC分类号: A61N7/02

    摘要: 本发明公开了用于治疗性处理的装置(1)和方法,包括能够针对靶(3)发射高强度波(HIFU)以便处理靶的声处理换能器(2)。高强度波具有焦点。该装置包括至少一个用于检测在靶(3)中由所述高强度波引起的组织特性变化的检测器(15)。装置(1)还包括至少一种用于时间测量的工具或用于检测组织特性变化出现的频率的工具,所述至少一种用于时间测量的工具能够测量从HIFU脉冲发射开始直到检测到组织特性变化的时间t标志。