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    一种高浓度二氧化硅溶胶的制备方法
    1.
    发明公开
    一种高浓度二氧化硅溶胶的制备方法 无效

    公开(公告)号：CN108101070A

    公开(公告)日：2018-06-01

    申请号：CN201711172359.7

    申请日：2017-11-22

    申请人： 浙江加州国际纳米技术研究院台州分院

    发明人： 吴春春 ,  汪海风 ,  阙永生 ,  盛建松 ,  方竹根 ,  杨辉

    IPC分类号： C01B33/141 ,  C01B33/145

    CPC分类号： C01B33/141 ,  C01B33/145 ,  C01P2004/51

    摘要： 本发明涉及纳米材料技术，旨在提供一种高浓度二氧化硅溶胶的制备方法。该方法包括：(1)将醇溶剂、去离子水和催化剂混合，得到溶液A；将醇溶剂和正硅酸甲酯混合，得到溶液B；(2)将溶液B添加到溶液A中，反应后得到二氧化硅初始溶胶；(3)将二氧化硅初始溶胶进行陈化、除氨，得到中性二氧化硅溶胶；再经浓缩蒸馏至二氧化硅溶胶固含量≥30％，得到高浓度二氧化硅溶胶。本发明的制备方法工艺简单、容易操作，反应可控且氧化硅胶体粒子分布较窄；制得的二氧化硅溶胶的纯度高、一次制备固含量相对较高，正硅酸甲酯经蒸馏后可获得不含金属离子的高纯硅溶胶；本发明制备获得的产品主要用在涂料方面。

    生产含有二氧化硅颗粒和阳离子化剂的分散体的方法
    5.
    发明授权
    生产含有二氧化硅颗粒和阳离子化剂的分散体的方法 有权

    公开(公告)号：CN102958619B

    公开(公告)日：2014-04-02

    申请号：CN201180028960.3

    申请日：2011-05-23

    申请人： 赢创德固赛有限公司

    发明人： S·沙尔芬 ,  A·霍伊施恩 ,  C·巴茨-佐恩 ,  B·施坦德克 ,  C·瓦斯莫 ,  H·拉克

    IPC分类号： B05D5/04 ,  C01B33/141 ,  B41M5/50

    CPC分类号： B41M5/5218 ,  B41M5/426 ,  C01B33/141 ,  D21H19/40

    摘要： 一种如下来制备包含二氧化硅颗粒和阳离子化剂的分散体的方法：将50-75重量份的水、25-50重量份的BET表面积为30-500m2/g的二氧化硅颗粒和基于该二氧化硅颗粒每平方米的BET表面积为100-300μg的阳离子化剂分散，其中该阳离子化剂是如下来获得：将至少一种卤烷基官能化的烷氧基硅烷、它的水解产物或者缩合产物和/或其混合物与至少一种氨基醇和规定量的水反应，并且任选地从该反应混合物中至少部分地除去所形成的水解醇。一种如下来制备包含二氧化硅颗粒和阳离子化剂的分散体的方法：将50-75重量份的水、25-50重量份的BET表面积为30-500m2/g的二氧化硅颗粒和基于该二氧化硅颗粒每平方米的BET表面积为100-300μg的阳离子化剂分散，其中该阳离子化剂包含一种或多种通式III的季化的氨基醇官能化的有机硅化合物和/或其缩合产物，其中Ru和Rv每个彼此独立地是具有2-4个碳原子的烷基，m是2-5，和n是2-5。

    具有陶瓷复合体的圆筒装置、具有该圆筒装置的循环装置及涂敷装置
    6.
    发明公开
    具有陶瓷复合体的圆筒装置、具有该圆筒装置的循环装置及涂敷装置 有权

    公开(公告)号：CN103260738A

    公开(公告)日：2013-08-21

    申请号：CN201080070684.2

    申请日：2010-12-17

    申请人： 神田智一

    发明人： 神田智一

    IPC分类号： B01J8/20 ,  B01F1/00 ,  C01B33/141 ,  A47L11/03

    CPC分类号： B01F1/0033 ,  C01B33/141

    摘要： 本发明提供一种具有陶瓷复合体的圆筒装置、具有该圆筒装置的循环装置及涂敷装置，该陶瓷复合体用于形成耐久性优良的被膜，即坚固的氧化硅透明薄膜。本发明的圆筒装置在内部的两端部附近分别设置有过滤器（6、7）。在该等过滤器之间，在具有陶瓷复合体（8）的筒状体1的一端，具有贯通位于该一端侧附近的过滤器（7）的水流喷出管2，且所述筒状体（1）的另一端具有水流出口（4），并且所述水流喷出管（2）具有水流入口（3），而且其前端被闭塞，且管路的侧壁具有一个或两个以上的水喷出孔（5）。并且，可作为将圆筒装置与液体循环装置相连接的浓缩液体生成循环装置而利用。并且能够安装在自动地板清洗机来使用。

    胶态二氧化硅及其制造方法
    7.
    发明授权
    胶态二氧化硅及其制造方法 有权

    公开(公告)号：CN101641288B

    公开(公告)日：2013-07-03

    申请号：CN200880009708.6

    申请日：2008-03-27

    申请人： 扶桑化学工业株式会社

    发明人： 樋口一明

    IPC分类号： C01B33/141 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

    CPC分类号： C01B33/141 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

    摘要： 本发明提供一种金属杂质更少且致密的二氧化硅颗粒。具体而言，本发明提供一种胶态二氧化硅及其制造方法，该胶态二氧化硅为以硅酸烷基酯作为原料制得的胶态二氧化硅，其特征在于：在上述胶态二氧化硅的干固物中添加作为内标的聚二甲基硅烷1重量％，得到试样，对该试样测定固体29Si-CP/MAS-NMR谱时，由胶态二氧化硅峰面积/聚二甲基硅烷峰面积的计算式求得的峰面积值为15以下。

    生产具有可控宽粒径分布和最小粒径的硅石溶胶的方法
    8.
    发明公开
    生产具有可控宽粒径分布和最小粒径的硅石溶胶的方法 有权

    公开(公告)号：CN102164854A

    公开(公告)日：2011-08-24

    申请号：CN200980137724.8

    申请日：2009-09-24

    申请人： 纳尔科公司

    发明人： 丹尼斯·L·麦克唐纳

    IPC分类号： C01B33/141

    CPC分类号： C01B33/141

    摘要： 本发明公开并主张具有可控宽粒径分布和可控最小粒径的胶体硅石。将低于预定大小的颗粒从本发明的胶体硅石产品中排除。本发明公开了用于连续生产所需胶体组合物的方法，包括提供具有用于控制胶体硅石产品粒径的表面积的预制硅石颗粒，以低于成核速率的进料速率添加包含碱溶液和硅酸盐的硅石进料的步骤。

    金属杂质含量小于1PPM的耐碱性超高纯硅溶胶的制备方法
    9.
    发明授权
    金属杂质含量小于1PPM的耐碱性超高纯硅溶胶的制备方法 有权 转让

    公开(公告)号：CN100586851C

    公开(公告)日：2010-02-03

    申请号：CN200710019366.3

    申请日：2007-01-15

    申请人： 苏州纳迪微电子有限公司

    发明人： 王宇湖 ,  张宁

    IPC分类号： C01B33/14

    CPC分类号： C01B33/141

    摘要： 本发明公开了一种耐碱性超高纯硅溶胶的制备方法，包括下列步骤：一、以可以精馏提纯的有机硅烷作为原料，将其溶解于无机酸或有机酸制得酸性硅酸溶液；二、将可以精馏提纯的有机硅烷溶解在无机碱或有机碱水溶液中制得碱性含硅溶液，或者将无机碱或有机碱水溶液直接稀释制得碱性不含硅溶液；三、将酸性硅酸溶液与碱性的含硅或不含硅溶液在105度以下的温度反应，制备成硅溶胶；四、将硅溶胶在常压下或减压下加热至沸腾排除甲醇乙醇等副产品及一部分的水，得到浓度在20%以上的硅溶胶；本发明既具有与STOBER法硅溶胶一样的超高纯，又具有与水玻璃法的硅溶胶一样的耐碱性，还可以与一般的水玻璃法硅溶胶一样可浓缩至高浓度。