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    树脂组合物、含硼聚合物的生产方法和防污涂料
    2.
    发明授权
    树脂组合物、含硼聚合物的生产方法和防污涂料 失效 转让

    公开(公告)号：CN1224643C

    公开(公告)日：2005-10-26

    申请号：CN02108264.2

    申请日：2002-03-28

    申请人： 日本油漆株式会社

    发明人： 中村勋 ,  山盛直树

    IPC分类号： C08L85/04 ,  C08G79/08 ,  C09D5/16

    CPC分类号： C09D5/1668 ,  C08F8/42 ,  C08F30/06

    摘要： 本发明提供一种包含含硼聚合物的树脂组合物，从环境方面来看，它用作不含重金属的防污涂料。因此，本发明提供一种树脂组合物，它包含在其侧链或末端具有至少一个由下列分子式(1)表示的基团的含硼聚合物。在该分子式中，R1是酸基的一部分；R2基团是相同或不同的并且每一个表示取代或未取代的烷基或芳基；X表示氧或硫原子；Y表示伯胺-叔胺或者含有取代或未取代的氮原子的杂环化合物；n为1或2。

    电化学装置用含硼化合物、离子导电性高分子和高分子电解质
    3.
    发明公开
    电化学装置用含硼化合物、离子导电性高分子和高分子电解质 失效

    公开(公告)号：CN1502644A

    公开(公告)日：2004-06-09

    申请号：CN200310118012.6

    申请日：2003-11-20

    申请人： 株式会社日立制作所 ,  日本油脂株式会社

    发明人： 奥村壮文 ,  西村伸 ,  岩安纪雄 ,  横山晶一 ,  矢部健

    IPC分类号： C08G65/328

    CPC分类号： H01M10/0565 ,  C07F5/04 ,  C08F30/06 ,  C08G65/328 ,  C08G79/08 ,  H01B1/122 ,  H01M6/181 ,  H01M10/0525

    摘要： 本发明提供电化学装置用含硼化合物、离子导电性高分子和高分子电解质。所述高分子电解质含有(式1)所示的聚合性含硼化合物或其聚合物、或者含有(式2)的化合物与(式3)的化合物的聚合物及它们的聚合物与电解质盐。B是硼原子，Z1、Z2、Z3是有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基、或C1～C10的烃基，Z1、Z2、Z3的1个或2个是有上述丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基；AO是C1～C6的氧亚烷基、由1种或2种以上构成；l、m、n是氧亚烷基的平均加成摩尔数，是大于0小于4的数，且l+m+n在1以上；B是硼原子，Z4、Z5、Z6是有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基、或C1～C10的烃基，Z4、Z5、Z6的至少1个是有上述丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基；R1、R2、R3是C1～C10的烃基；AO是C1～C6的氧亚烷基，由1种或2种以上构成；p、q、r、α、β、γ是氧亚烷基的平均加成摩尔数，其大于0小于4，且p+q+r，α+β+γ各自在1以上。

    电化学装置用含硼化合物、离子导电性高分子和高分子电解质
    7.
    发明授权
    电化学装置用含硼化合物、离子导电性高分子和高分子电解质 失效

    公开(公告)号：CN100424116C

    公开(公告)日：2008-10-08

    申请号：CN200310118012.6

    申请日：2003-11-20

    申请人： 株式会社日立制作所 ,  日油株式会社

    发明人： 奥村壮文 ,  西村伸 ,  岩安纪雄 ,  横山晶一 ,  矢部健

    IPC分类号： C08G65/328

    CPC分类号： H01M10/0565 ,  C07F5/04 ,  C08F30/06 ,  C08G65/328 ,  C08G79/08 ,  H01B1/122 ,  H01M6/181 ,  H01M10/0525

    摘要： 本发明提供电化学装置用含硼化合物、离子导电性高分子和高分子电解质。所述高分子电解质含有(式1)所示的聚合性含硼化合物或其聚合物、或者含有(式2)的化合物与(式3)的化合物的聚合物及它们的聚合物与电解质盐。B是硼原子，Z1、Z2、Z3是有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基、或C1～C10的烃基，Z1、Z2、Z3的1个或2个是有上述丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基；AO是C1-C6的氧亚烷基、由1种或2种以上构成；l、m、n是氧亚烷基的平均加成摩尔数，是大于0小于4的数，且l+m+n在1以上；B是硼原子，Z4、Z5、Z6是有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基、或C1～C10的烃基，Z4、Z5、Z6的至少1个是有上述丙烯酰基或甲基丙烯酰基的有机基；R1、R2、R3是C1～C10的烃基；AO是C1～C6的氧亚烷基，由1种或2种以上构成；p、q、r、α、β、γ是氧亚烷基的平均加成摩尔数，其大于0小于4，且p+q+r，α+β+γ各自在1以上。