单晶硅生长氧含量控制技术

    公开(公告)号:CN105506731A

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201510899270.5

    申请日:2015-12-09

    发明人: 张俊宝 宋洪伟

    IPC分类号: C30B15/20 C30B30/06 C30B29/06

    CPC分类号: C30B15/20 C30B29/06 C30B30/06

    摘要: 本发明技术是一种单晶硅生长氧含量控制技术。在石英坩埚底部采用一个与坩埚外径以及外形匹配相同的环形振荡源,振荡源环产生一个纵向正弦振荡波,从坩埚的底部传入到熔体中,传播方向为垂直向上的直线传播。振荡波传输到熔体中,对坩埚周围的高温硅熔体产生空化作用、搅拌作用和纵向流动作用,在坩埚壁附近区域形成向上的流动,加速高浓度区的氧向熔体自由表面流动,同时降低熔体中的Si-O气体的溶解度,促进Si-O在熔体表面的挥发。从而达到控制硅单晶中氧浓度的作用。

    晶体材料熔化方法及熔化设备

    公开(公告)号:CN108754611A

    公开(公告)日:2018-11-06

    申请号:CN201810607648.3

    申请日:2018-06-13

    发明人: 李留臣 周正星

    IPC分类号: C30B30/06

    CPC分类号: C30B30/06

    摘要: 本发明公开了一种晶体材料熔化方法及熔化设备,通过在坩埚上连接振动机构,使晶体材料在熔化过程中保持振动,气泡气体能够向上顺利排出;同时,通过在坩埚外部自下而上设置至少两段加热器,自下而上依次间隔的对坩埚进行加热,使坩埚中的晶体材料从底部开始熔化,并逐步向上熔化,直至全部熔化;晶体材料在熔化过程中,气泡气体能够进一步向上顺利排出,保证熔化后的晶体材料中不含气体,避免人工晶体材料在生长过程中内部出现的气泡和孔洞问题,提高人工晶体材料的质量和成品率。