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公开(公告)号：CN101946202B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200980105377.0
申请日：2009-01-13
申请人： 浜松光子学株式会社
CPC分类号： A61B3/1025 , A61B3/1015 , G01J9/00 , G02B17/0836 , G02B21/06 , G02B21/14 , G02B27/50
摘要： 观察装置(1)具备光源部(10)、二轴扫描系统(20)、波阵面调制部(30)、光分支部(40)、光检测部(50)、波阵面检测部(60)以及控制部(70)等。波阵面调制部(30)呈现补偿输入光的像差的补偿用相位图形，并且呈现将输入光分支成第一及第二光的分支用相位图形。波阵面检测部(60)接收所输入的光，检测该光的波阵面。在包括由波阵面检测部(60)对光的波阵面变形的检测、基于该检测结果由控制部(70)对相位图形的调整、由波阵面调制部(30)对相位图形的呈现在内的循环处理中，用于进行波阵面像差补偿的补偿用相位图形被反馈控制。
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公开(公告)号：CN103018202B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201110283462.5
申请日：2011-09-22
申请人： 中国科学院微电子研究所
发明人： 陈鲁
IPC分类号： G01N21/45 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/47 , G01N21/55 , G01N21/956 , G02B27/50
摘要： 本发明实施例公开了一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置，其中，所述方法包括：在Fourier平面设置螺旋相位片，通过所述螺旋相位片，接收集成电路上缺陷的散射光和反射光，其中，所述散射光经过所述螺旋相位片，在图像接收平面形成圆圈形状图像；所述反射光经过所述螺旋相位片的中心，在图像接收平面形成同相位均匀背景光；所述圆圈形状图像与同相位均匀背景光在图像接收平面发生相位干涉，形成包含亮斑和暗斑的光斑图像；根据所述光斑图像，确定所述集成电路上缺陷的类别。通过本发明实施例，能够提高集成电路中缺陷检测的精度。
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公开(公告)号：CN102348955A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN200980158091.9
申请日：2009-12-17
申请人： 3BSYSTEM股份有限公司
CPC分类号： G02B5/12 , G01N21/8901 , G02B27/50
摘要： 本发明包括透明的或反射的检测物体的检测方法，该检测方法将向后反射板用作凸透镜或凹面镜，使得即使该检测物体是弯曲的或者在该检测物体移动的过程中发生振动也能够以稳定的方式来检测这些缺陷；其中，穿透测量场或在测量场中被反射的平行光的位移是通过使用检测场中发生的变化(即透射检测情况下的密度梯度的变化或反射检测情况下的反射角度的变化)来捕获的。本发明也包括一种用于缺陷检测的检测设备，其中，刀口被水平地设置至光轴且在相机透镜的上表面上，以便收集透射的光或反射的光，使得可以获得三维缺陷图像，因为从平行光发散的任何光都被阻挡，因相机的检测场中的密度梯度而导致光的对比度发生相应的变化。
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公开(公告)号：CN101438195B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200680045976.4
申请日：2006-10-05
申请人： 通快激光两合公司
CPC分类号： G02B27/50 , G02B13/0005 , G02B26/101 , G02B26/105
摘要： 一种F/θ镜头(1)，用于在平面的像场中聚焦大功率激光射线，具有至少两个、最好正好两个在光路中前后布置的透镜(2，3)，这些透镜在1kW以上的激光射线功率时是稳定的，其中，至少一个透镜(3)具有一个或两个非球面的透镜面(8)。
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公开(公告)号：CN101438195A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200680045976.4
申请日：2006-10-05
申请人： 通快激光两合公司
CPC分类号： G02B27/50 , G02B13/0005 , G02B26/101 , G02B26/105
摘要： 一种F/θ镜头(1)，用于在平面的像场中聚焦大功率激光射线，具有至少两个、最好正好两个在光路中前后布置的透镜(2，3)，这些透镜在1kW以上的激光射线功率时是稳定的，其中，至少一个透镜(3)具有一个或两个非球面的透镜面(8)。
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公开(公告)号：CN105474101B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201480046880.4
申请日：2014-07-24
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70133 , G02B27/44 , G02B27/50 , G03F7/70041 , H01S3/005 , H01S3/1307 , H01S3/2391 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要： 本发明公开了一种辐射源，所述辐射源包括：喷嘴，所述喷嘴被配置用于沿着液滴路径将燃料液滴束流朝向等离子体形成位置引导，并且所述辐射源被配置用于接收具有高斯强度分布、具有预定波长和沿预定轨迹传播的高斯辐射束，所述辐射源被进一步配置用于将辐射束聚焦到等离子体形成位置处的燃料液滴上。所述辐射源包括相位板结构，所述相位板结构包括一个或更多个相位板。所述相位板结构具有第一区和第二区。所述区被布置成使得通过第一区的具有预定波长的辐射和通过第二区的具有预定波长的辐射沿着具有不同光程的各个光路传播。光程之间的差是所述预定波长的一半的奇数倍。
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公开(公告)号：CN105474101A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480046880.4
申请日：2014-07-24
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70133 , G02B27/44 , G02B27/50 , G03F7/70041 , H01S3/005 , H01S3/1307 , H01S3/2391 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要： 本发明公开了一种辐射源，所述辐射源包括：喷嘴，所述喷嘴被配置用于沿着液滴路径将燃料液滴束流朝向等离子体形成位置引导，并且所述辐射源被配置用于接收具有高斯强度分布、具有预定波长和沿预定轨迹传播的高斯辐射束，所述辐射源被进一步配置用于将辐射束聚焦到等离子体形成位置处的燃料液滴上。所述辐射源包括相位板结构，所述相位板结构包括一个或更多个相位板。所述相位板结构具有第一区和第二区。所述区被布置成使得通过第一区的具有预定波长的辐射和通过第二区的具有预定波长的辐射沿着具有不同光程的各个光路传播。光程之间的差是所述预定波长的一半的奇数倍。
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公开(公告)号：CN103018202A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201110283462.5
申请日：2011-09-22
申请人： 中国科学院微电子研究所
发明人： 陈鲁
IPC分类号： G01N21/45 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/47 , G01N21/55 , G01N21/956 , G02B27/50
摘要： 本发明实施例公开了一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置，其中，所述方法包括：在Fourier平面设置螺旋相位片，通过所述螺旋相位片，接收集成电路上缺陷的散射光和反射光，其中，所述散射光经过所述螺旋相位片，在图像接收平面形成圆圈形状图像；所述反射光经过所述螺旋相位片的中心，在图像接收平面形成同相位均匀背景光；所述圆圈形状图像与同相位均匀背景光在图像接收平面发生相位干涉，形成包含亮斑和暗斑的光斑图像；根据所述光斑图像，确定所述集成电路上缺陷的类别。通过本发明实施例，能够提高集成电路中缺陷检测的精度。
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公开(公告)号：CN101946202A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200980105377.0
申请日：2009-01-13
申请人： 浜松光子学株式会社
CPC分类号： A61B3/1025 , A61B3/1015 , G01J9/00 , G02B17/0836 , G02B21/06 , G02B21/14 , G02B27/50
摘要： 观察装置(1)具备光源部(10)、二轴扫描系统(20)、波阵面调制部(30)、光分支部(40)、光检测部(50)、波阵面检测部(60)以及控制部(70)等。波阵面调制部(30)呈现补偿输入光的像差的补偿用相位图形，并且呈现将输入光分支成第一及第二光的分支用相位图形。波阵面检测部(60)接收所输入的光，检测该光的波阵面。在包括由波阵面检测部(60)对光的波阵面变形的检测、基于该检测结果由控制部(70)对相位图形的调整、由波阵面调制部(30)对相位图形的呈现在内的循环处理中，用于进行波阵面像差补偿的补偿用相位图形被反馈控制。
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