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公开(公告)号：CN106444331A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610653016.1
申请日：2016-08-11
申请人： 上海大学
CPC分类号： G03H1/02 , C09K19/52 , C09K2019/521 , G03H1/04 , G03H1/0476 , G03H2001/026 , G03H2001/0436
摘要： 本发明提供了一种基于银纳米颗粒掺杂材料的全息三维显示屏的制备方法，其包括以下步骤：步骤一，制备银纳米颗粒掺杂液晶材料；步骤二，制备银纳米颗粒掺杂液晶材料的液晶盒；步骤三，将步骤二所制备的银纳米颗粒掺杂液晶材料的液晶盒放置于室温条件下，在纳米颗粒掺杂液晶材料的液晶盒的两端施加电压，用一激光干涉来记录，用另一激光衍射来读出全息图。本发明的操作流程简单，光路容易实现，为后续实现动态图像刷新奠定了基础，由于在液晶材料里掺杂银纳米颗粒，使得最终所得的银纳米颗粒掺杂液晶材料的液晶盒具有响应时间达到20ms的特性并出现衍射图像突然增强的效应，全息显示材料的衍射效率高。
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公开(公告)号：CN103472703A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310288722.7
申请日：2008-02-28
申请人： 大日本印刷株式会社
CPC分类号： G03H1/0011 , G03F7/001 , G03H1/02 , G03H1/0248 , G03H1/0252 , G03H1/0256 , G03H1/18 , G03H1/182 , G03H2001/026 , G03H2001/0264 , G03H2001/186 , G03H2001/187 , G03H2250/10 , G03H2250/12 , G03H2250/35 , G03H2250/39 , G03H2250/44 , G03H2260/12 , G03H2260/32
摘要： 本发明的主要目的在于提供一种体积全息图层叠体，其具有基材和体积全息图层叠部，所述体积全息图层叠部包括形成于所述基材上且含有光聚合性化合物并通过形成干涉条纹而记录了体积全息图的体积全息图层，以及以接触于所述体积全息图层的方式形成的含有透明树脂的树脂层，其中，在所述树脂层上形成有干涉条纹。
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公开(公告)号：CN101900852A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200910253946.8
申请日：2009-12-09
申请人： 索尼株式会社
CPC分类号： G03H1/0272 , G02B5/32 , G02B27/0103 , G02B2027/0109 , G03F7/001 , G03H1/0248 , G03H1/04 , G03H1/0408 , G03H2001/026 , G03H2001/0439 , G03H2001/2615 , G03H2001/263 , G03H2222/18
摘要： 一种全息记录膜及其制造方法与图像显示设备，所述方法包括步骤：(A)通过彼此交替层叠包含感光材料的M(其中M≥2)个感光材料前体层和至少一个(M-1)树脂层获得叠层结构；(B)通过利用参考激光束和物体激光束照射叠层结构，由M个感光材料前体层获得M个感光材料层，其中具有所需间距和所需倾斜角的至少两个干涉条纹形成在M个感光材料层的每个上；和(C)通过利用能量射线从叠层结构的一个面侧照射叠层结构并加热叠层结构，使M个感光材料层彼此的倾斜角不同而保持限定在感光材料层的表面上的间距的值。
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公开(公告)号：CN1825441A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200510072398.0
申请日：2005-05-31
申请人： 富士通株式会社
发明人： 金冈利知
IPC分类号： G11B7/0065 , G11C13/04 , G03H1/04
CPC分类号： G03H1/02 , G03H1/0256 , G03H1/26 , G03H2001/026 , G03H2250/33 , G03H2250/38 , G11B7/0065 , G11B7/00781 , G11B7/24033 , G11B7/24044
摘要： 本发明提供了一种光记录介质，包括：全息记录层，通过全息技术在该全息记录层上记录信息；固定到全息记录层的至少一个主表面的遮光组件；用于控制遮光组件的透光状态的控制电极，其中，遮光组件具有通过在记录单元区域基础上划分遮光组件而获得的多个像素，并且透光状态可被逐个像素地控制。
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公开(公告)号：CN1355452A
公开(公告)日：2002-06-26
申请号：CN01134344.3
申请日：2001-10-31
申请人： 先锋株式会社
发明人： 田中党
CPC分类号： G11B7/0065 , G03H1/181 , G03H1/20 , G03H1/26 , G03H1/265 , G03H2001/026 , G03H2001/0268 , G03H2001/0413 , G03H2001/184 , G03H2001/205 , G03H2210/562 , G03H2222/56
摘要： 一种全息记录和再现设备。该设备包括:一个支撑部分用于可拆卸地支撑和旋转记录介质;一个记录基准光束提供部分用于提供沿光程传播到记录介质主表面的相干记录基准光束;一个信号光束提供部分用于提供在光程中按照图象数据调制的相干信号光束到记录介质内;一个再现基准光束提供部分用于提供沿记录基准光束光轴相反方向传播的相干再现基准光束以根据光干涉图形的折射率光栅产生相位共轭波;一个分光部分用于将来自信号光束光程的相位共轭波分离以利用该相位共轭波成像一个点图形;一个光电检测部分疑难关于检测利用相位共轭波成像的点图形以再现该图象数据。
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公开(公告)号：CN1271429A
公开(公告)日：2000-10-25
申请号：CN98809312.X
申请日：1998-09-10
申请人： 康宁股份有限公司
CPC分类号： G03H1/02 , G03F7/001 , G03F7/04 , G03F7/40 , G03H1/0248 , G03H1/0272 , G03H2001/026 , G03H2001/0264 , G03H2270/53
摘要： 公开的全息照片包括:多孔含硅透明基质,它带有许多互联的微孔或孔隙,孔隙的平均半径小于全息记录光的波长和全息读取光的波长;可光解材料的光解产物,所述产物附着在某些微孔的壁上,并根据所记录的干涉图案而进行空间分布;和填入所述微孔的固态透明聚合物材料,所述聚合物材料的折射率局部变化,所述变化的空间调制与所记录的干涉图案相符,所述光解产物是组合物聚合成所述聚合物填料的聚合改性剂。
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公开(公告)号：CN103472703B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201310288722.7
申请日：2008-02-28
申请人： 大日本印刷株式会社
CPC分类号： G03H1/0011 , G03F7/001 , G03H1/02 , G03H1/0248 , G03H1/0252 , G03H1/0256 , G03H1/18 , G03H1/182 , G03H2001/026 , G03H2001/0264 , G03H2001/186 , G03H2001/187 , G03H2250/10 , G03H2250/12 , G03H2250/35 , G03H2250/39 , G03H2250/44 , G03H2260/12 , G03H2260/32
摘要： 本发明的主要目的在于提供一种体积全息图层叠体，其具有基材和体积全息图层叠部，所述体积全息图层叠部包括形成于所述基材上且含有光聚合性化合物并通过形成干涉条纹而记录了体积全息图的体积全息图层，以及以接触于所述体积全息图层的方式形成的含有透明树脂的树脂层，其中，在所述树脂层上形成有干涉条纹。
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公开(公告)号：CN100466079C
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200510129067.6
申请日：2005-11-25
申请人： 株式会社东芝
IPC分类号： G11B7/24 , G11B7/244 , G11B7/0065 , G03H1/04
CPC分类号： G03F7/032 , G03F7/001 , G03H1/02 , G03H2001/026 , G03H2001/0264 , G03H2240/50
摘要： 一种全息图记录介质，其包括：第一和第二半透明基层；以及记录层。所述记录层形成于第一和第二半透明基层之间，包含三维交联聚合物基质，其含有环氧当量为100～300的二缩水甘油醚和脂肪族酸酐的固化反应产物、可自由基引发聚合的化合物和光自由基聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN1815590A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200510129067.6
申请日：2005-11-25
申请人： 株式会社东芝
IPC分类号： G11B7/24 , G11B7/244 , G11B7/0065 , G03H1/04
CPC分类号： G03F7/032 , G03F7/001 , G03H1/02 , G03H2001/026 , G03H2001/0264 , G03H2240/50
摘要： 一种全息图记录介质，其包括：第一和第二半透明基层；以及记录层。所述记录层形成于第一和第二基层之间，包含三维交联聚合物基质、可自由基引发聚合的化合物和光自由基聚合引发剂，其在室温下具有类似橡胶的弹性且肖氏硬度在A45到A85的范围内。
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公开(公告)号：CN1178959C
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN97196664.8
申请日：1997-05-15
申请人： 拜尔公司
IPC分类号： C08F8/00 , C08F220/34 , G11B7/24
CPC分类号： G03F7/001 , C08F8/00 , C08F246/00 , C09B69/106 , G03H1/02 , G03H2001/026 , G03H2001/0264 , G03H2240/52 , G11B7/245 , C08F20/00
摘要： 由本来缓慢的光寻址聚合物生产极快速光寻址存储介质是可能的，方法是通过用适于常规刻录的光源大面积照射基片因此发生光学各向异性，即在基片平面内带有优先方向的双折射。如果这样制备的基片经短暂强烈的照射，图案被极快速且永久地刻录。本发明也涉及新的侧链聚合物，在该聚合物中可通过照射产生高度的光学各向异性。此光学各向异性对热是非常稳定的。
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