等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法

    公开(公告)号:CN103796408A

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201310523027.4

    申请日:2013-10-30

    IPC分类号: H05H1/24 H05H1/48

    摘要: 本发明涉及等离子体生成装置组件、电弧缓解装置和组装方法。更具体而言,一种等离子体生成装置组件包括基体,该基体包括内部和顶表面,顶表面限定延伸穿过该顶表面的多个孔口。等离子体生成装置组件还包括等离子体生成装置和多个联接部件。等离子体生成装置定位于顶表面上,并且配置成在等离子体生成装置被启动时发射烧蚀等离子体。多个联接部件延伸穿过多个孔口,并且配置成将等离子体生成装置联接到顶表面。

    等离子体生成设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102223750A

    公开(公告)日:2011-10-19

    申请号:CN201110105694.1

    申请日:2011-04-13

    IPC分类号: H05H1/34

    CPC分类号: H05H1/52 H01T2/02

    摘要: 本发明名称是“等离子体生成设备”。所提供的是一种设备,比如电弧减轻装置,它包括定义内腔和纵轴的环状主体,环状主体具有沿纵轴的主体长度。电极能够同轴设置在内腔内。电极可在主体中延伸至少为主体长度的大约50%的电极长度,并且可具有小于或等于环状主体的内径的大约50%的直径。消融材料部分能够设置在环状主体与电极之间。环状主体和电极可经过配置,使得当电弧存在于环状主体与电极之间时,消融材料部分经受消融并且由此生成等离子体。

    用于使用等离子源激发井、沉积物和钻孔的系统和方法

    公开(公告)号:CN104756608B

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201380049824.1

    申请日:2013-07-26

    IPC分类号: H05H1/24 E21B43/00

    摘要: 一种用于在流体介质中产生非线性的、宽频带的、周期性的、定向的、弹性的振荡的等离子体源。等离子体源包括具有限定间隙的两个电极的等离子体发射器、用于将金属导体引入到间隙中的传送装置以及用于为等离子体发射器供电的高压变压器。一种用于通过使用等离子体源产生的受控的周期性振荡激发井、沉积物和钻孔的系统和方法。系统包括等离子体源、地面控制单元和支撑电缆。在方法中,等离子体源浸没在井、沉积物或者钻孔的流体介质中并且用于在间隙中产生金属等离子体。金属等离子体发射压力脉冲和冲击波,该压力脉冲和冲击波被引导至流体介质中。在流体介质中产生非线性的、宽频带的、周期性的和弹性的振荡,包括冲击波的通过的谐振振荡。

    烧蚀性等离子体枪
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101291561A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810092604.8

    申请日:2008-04-16

    IPC分类号: H05H1/32 H05H1/34

    CPC分类号: H05H1/52 H01T2/02

    摘要: 一种等离子体枪具有在由烧蚀性材料如烧蚀性聚合物形成的室的相对端部上的两个间隙电极。所述枪以超声速度喷射烧蚀性等离子体。扩散型喷嘴散布等离子体射流以便对介于主电弧装置如电弧短路器或高电压功率开关的电极之间的间隙进行充注。所述等离子体通过借助于所述烧蚀性等离子体降低所述主电弧间隙的阻抗以便在所述主电极之间提供传导性路径而触发所述主电弧装置。这使得与以前的电弧触发器相比提供了更快的触发且需要更少的触发器能量。这还提供了比以前可能实现的引发主电弧更具传导性的引发主电弧。可通过等离子体性质来控制所述主电弧的引发性质,所述等离子体的性质进一步地可由所述烧蚀性等离子体枪的设计参数来控制。