一种易于调整的机床砂轮修整装置

    公开(公告)号:CN118721028A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202411071265.0

    申请日:2024-08-06

    发明人: 陶国正 陶国兵

    IPC分类号: B24B53/017 B24B53/12

    摘要: 本发明公开了一种易于调整的机床砂轮修整装置,包括:磨床本体,所述磨床本体上包括第一打磨机构及第二打磨机构,所述第一打磨机构与第二打磨机构并排设置,所述第二打磨机构内侧转动设置有打磨砂轮;横向移动机构,通过其下表面设置的支撑座安装于磨床本体上;纵向移动机构,设置于横向移动机构上,且所述纵向移动机构输出端设置有修整刀头;通过设置有横向移动机构、纵向移动机构、连接开口、修整刀头及挡板,本装置可以根据打磨砂轮外表面待修理的位置,对修整刀头的位置进行调整,然后精准对打磨砂轮进行修整,不需要将打磨砂轮拆卸,维护简便,省时省事,极大的提高了对打磨砂轮的维护效率。

    磨、车一体化复合磨床
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111113227B

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202010040149.8

    申请日:2020-01-15

    发明人: 何万清

    摘要: 本发明公开了一种磨、车一体化复合磨床,包括磨床主体、内磨金刚笔座、外磨金刚笔座、夹盘、工件、砂轮座、内磨砂轮、外磨砂轮、车刀结构、移动调节机构、辅助导向结构和多喷头清洁机构,本发明利用磨床非机械承重空间,增加车刀结构,使内孔/锥面磨削、端面车削一次性加工完成,无需分序加工,保证产品端面跳动,进而提高产品定位精度、提高磨齿工艺零件精度,并且在砂轮座上端安装有多喷头清洁机构,由汇流件上端通过三条分接管分别连接第一喷射结构、第二喷射结构和第三喷射结构,可同时对内磨砂轮、外磨砂轮和车刀结构进行喷气清洁,达到同步清洁的效果,使工件在加工时表面保持洁净,增加加工精度,提高加工效率。

    用于化学平面化的工具
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118434537A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202280069812.4

    申请日:2022-08-31

    摘要: 所公开的实例涉及在不使用研磨剂的情况下对基材进行平面化。一个实例提供对基材进行化学平面化的方法,所述方法包括:向多孔垫上引入无研磨剂的平面化溶液,使基材与多孔垫接触同时使多孔垫和基材相对彼此移动,使得基材的较高部分接触多孔垫且基材的较低部分不接触多孔垫,并且,经由与多孔垫接触,从基材的较高部分移去材料,以降低基材的较高部分相对于基材的较低部分的高度。在一些实例中,可采用线性运动用于化学平面化。

    玻璃抛光加工的抛光轮用自动打磨修轮机构

    公开(公告)号:CN118372177A

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410804233.0

    申请日:2024-06-21

    发明人: 梁东 金顺爱

    摘要: 本发明涉及抛光轮打磨领域,具体为玻璃抛光加工的抛光轮用自动打磨修轮机构,包括修轮机构,该修轮机构用于对打磨件位置的调节,以及对抛光轮的打磨;梯台,该梯台用于对修轮机构的支撑和固定,以及固定连接在所述梯台外侧上的架轨;所述架轨内腔的顶部滑动适配有滑杆,所述滑杆的底部转动连接有外套,其中外套的底部开设有槽,所述外套的内侧固定连接有驱动器,所述驱动器输出端的外侧通过轴承连接有轮壳,该玻璃抛光加工的抛光轮用自动打磨修轮机构,因为在对不同的玻璃进行抛光时,抛光轮的厚度和大小均是不一的,所以在对抛光轮进行打磨的时候,其打磨件也要与抛光轮处于同一高度,从而实现对抛光轮进行精准、精细的打磨作用。

    一种平面研磨机高效修盘器的制备方法

    公开(公告)号:CN118322102A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410535405.9

    申请日:2024-04-30

    摘要: 本发明涉及机械加工技术领域,具体为一种平面研磨机高效修盘器的制备方法。包括盘体和修盘器内圈,修盘器内圈为四个圆相交组成的通孔,盘体上分布有导流槽和凹槽,凹槽中填充磨块,磨块通过钎焊工艺或粉末烧结工艺进行制备,将其放入凹槽中,确保金刚石颗粒朝外,以提高磨具的硬度和耐磨性,从而提高加工效率和质量。本发明制备的修盘器具有结构简单、操作方便和工作效率高的特点。

    一种修正托盘提升式暂存系统及其使用方法

    公开(公告)号:CN118305727A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410541156.4

    申请日:2024-04-30

    摘要: 本发明公开了一种修正托盘提升式暂存系统及其使用方法,属于液晶玻璃加工制造技术领域。包括输送机构、识别组件、提升机构、检测组件及控制器,通过输送机构将修正托盘输送到研磨机入口工位处,提升机构能够将输送到研磨机入口工位处的修正托盘从工作高度提升到暂存高度暂存,通过将修正托盘提前暂存,既不影响研磨托盘从研磨机入口工位处的工作高度正常进入研磨机台内的研磨工位,也可以在研磨垫需要修正时,修正托盘可及时从暂存高度下降至工作高度,进入研磨机台内的研磨工位对研磨垫进行修正,大幅缩短上料时间,提高修正效率。

    砂轮激光修整系统
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108555780B

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN201810549449.1

    申请日:2018-05-31

    IPC分类号: B24B53/04 B24B53/06 B24B53/12

    摘要: 本发明公开了一种砂轮激光修整系统,包括砂轮定位装置、振镜和激光器,所述砂轮能够安装于砂轮定位装置上,振镜设于砂轮一侧,激光器发射的激光经过振镜调焦后恰能够垂直照射在砂轮圆周外侧表面上,本发明通过激光器生成的激光束通过振镜垂直照射于砂轮圆周外侧表面上,激光产生的热量使砂轮磨粒之间的结合剂部分融化蒸发或者汽化,进而使砂轮表面磨损的磨粒脱落,使砂轮内的新磨粒露出,新磨粒表面保持尖锐的外形,达到修锐的目的,该修整方法修整效率高,修整操作安全,激光器和振镜可以安装在磨床上,实现在线砂轮修整,提高磨床磨削效率。

    一种基于陶瓷树脂复合砂轮的化学纳米磨削方法

    公开(公告)号:CN118180996A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410279847.1

    申请日:2024-03-12

    IPC分类号: B24B1/00 B24B53/12 B24D18/00

    摘要: 本发明公开了一种基于陶瓷树脂复合砂轮的化学纳米磨削方法,涉及超硬磨具制造领域和超精密加工领域。本发明的化学纳米磨削方法,包括以下步骤:采用喷雾造粒法将超细磨料合成为微刃聚合磨料;将微刃聚合磨料、活性金属粉末、砂轮结合剂、分散剂、润湿剂和造孔剂混合制备陶瓷树脂复合砂轮;采用陶瓷树脂复合砂轮对硬脆材料工件进行化学纳米磨削加工。本发明的基于陶瓷树脂复合砂轮的化学纳米磨削方法,采用二步法制备面向化学机械磨削的陶瓷树脂复合砂轮,将固相化学反应与延性域磨削有机结合,实现硬脆材料大进给情况下的延性域磨削加工,在更小加工余量下快速获得纳米级光滑表面,降低加工对象材料损耗与加工成本。

    外圆磨万能砂轮修整器
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108481201B

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN201810419626.4

    申请日:2018-05-04

    发明人: 朱亚良

    IPC分类号: B24B53/06 B24B53/12

    摘要: 本发明涉及一种砂轮修整器,具体的说是外圆磨万能砂轮修整器,属于机械加工设备技术领域。其包括固定底板、回转机构、平移机构、套筒支座、套筒、上压板、载体主轴和金刚笔,底板上设有套筒支座,套筒支座上部通过螺栓连接上压板,套筒支座和上压板之间横向设置套筒,套筒支座和上压板将套筒夹持在内;套筒支座内设有回转机构,回转机构能够带动套筒支座围绕底板回转;套筒内设有平移机构,平移机构的平移端连接载体主轴,载体主轴前端连接金刚笔。本发明可对外圆磨砂轮进行两侧面、正面、角度以及圆弧的修整。有效的提高了工件的加工精度和面粗糙度;可在任意品牌磨床上的通用,修整砂轮方便快捷又平整。

    一种大尺寸碳化硅晶片抛光装置及抛光方法

    公开(公告)号:CN118003235A

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202410027174.0

    申请日:2024-01-09

    摘要: 本发明提供了一种大尺寸碳化硅晶片抛光装置及抛光方法,抛光装置包括:抛光盘、设于抛光盘上盘面上的抛光垫以及第一驱动轴,抛光垫上方设有若干呈环形分布的陶瓷盘,陶瓷盘与抛光垫之间设有抛光间隙;陶瓷盘上方设有压力盘,压力盘上设有第二驱动轴,压力盘外圆周表面滑动设有活动环,活动环下方设有若干呈环形间隔分布的钻石修整块,相邻两钻石修整块之间设有若干陶瓷匀液块,本发明减少了停机修整时间,在整个抛光过程中都能保持抛光垫表面的粗糙度,大幅提高了抛光移除速率,并减少了钻石修整块的压力,抛光垫磨损较少,提高产能效率的同时减少了抛光垫材料成本。