公开(公告)号：CN119546659A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380053339.5

申请日：2023-09-21

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 井之上雄一 ,  齐藤直人

IPC: C08F220/26 ,  C08F220/20 ,  C08F230/02 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31

Abstract: 本发明提供一种固化性组合物，其能够通过喷墨法形成固化性及保存稳定性优异、以及耐热性、耐光性、耐湿性、透明性及与基板的密合性优异的固化物。提供一种固化性组合物，其包含具有羟基的(甲基)丙烯酸酯(a)及具有2个以上(甲基)丙烯酸酯基的单体(c)作为必须成分。提供一种LED密封材料，其为该固化性组合物的固化物；一种LED元件，其包含该固化性组合物的固化物；以及一种电子设备及一种光学元件，其使用该固化性组合物的固化物。

公开(公告)号：CN118742855A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202380022676.8

申请日：2023-02-21

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 岸冈高广 ,  森谷俊介

IPC: G03F7/033 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种能够形成保护膜的材料，所述保护膜在半导体装置的制造中具有为了保护半导体制造用基板的端部所需要的充分的耐蚀刻性。[解决手段]一种光固化性组合物，其包含自交联性聚合物及溶剂，所述自交联性聚合物包含第一单体单元及第二单体单元，所述第一单体单元在侧链中包含芳基酮残基，所述第二单体单元在侧链中包含脂肪族烃残基和/或芳香族环残基，所述脂肪族烃残基包含容易发生夺氢反应的碳原子；一种半导体装置的制造方法，其包括下述工序：在半导体基板上形成抗蚀剂膜的工序；通过对抗蚀剂膜照射光或电子射线，然后进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；和通过蚀刻而对半导体基板进行加工的工序，在所述半导体装置的制造方法中，还包括下述工序：在半导体制造用晶圆的正面端部以及任选地在晶圆的倒角部和/或背面端部形成由所述光固化性组合物制成的保护膜。

公开(公告)号：CN113201245B

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202110078508.3

申请日：2021-01-20

Applicant: DIC油墨株式会社

Inventor： 三品彰义 ,  山本博之

IPC: C09D11/101 ,  C08F222/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/26 ,  C08F220/06 ,  C08F220/36 ,  C08F220/34

Abstract: 本发明提供活性能量射线固化性胶印印墨，即使不使用苯二甲酸二烯丙酯树脂，也显示出与使用该树脂时同样或更优的印墨特性。一种平版胶版印刷用活性能量射线固化型印墨，其特征在于，含有共聚物A和甲基丙烯酸酯化合物B，所述共聚物A包含含有特定量的以下成分作为必须的聚合成分的聚合物，其中，a～f的总量为100质量％，所述成分为：a官能团数为2～6的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物；b(甲基)丙烯酸芳基酯化合物；c苯乙烯化合物；d具有亲水性基团的含有聚合性不饱和键的化合物；e具有含有氮的杂环基的(甲基)丙烯酸酯化合物；以及f具有烷基氨基的(甲基)丙烯酸酯化合物。

公开(公告)号：CN116601191A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202180086620.X

申请日：2021-12-24

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 藤枝司 ,  山极大辉 ,  后藤耕平

IPC: C08F220/26

Abstract: 本发明提供一种单层相位差膜的制造方法，其包括以下工序：(I)将聚合物的单层相位差膜形成用聚合物组合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜的工序，所述聚合物在侧链上具有通过紫外线进行光反应的光反应性部位；(II)第一曝光工序，其中，对所述涂膜照射第一偏振光紫外线；及(III)第二曝光工序，其中，对照射了所述偏振光紫外线的涂膜、进一步对与照射了第一偏振光紫外线的面相同的面，照射与第一偏振光紫外线的偏振轴方向不同的第二偏振光紫外线。

公开(公告)号：CN112638964B

公开(公告)日：2023-02-24

申请号：CN201880096905.X

申请日：2018-09-28

Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司 ,  罗门哈斯公司

Inventor： 伍彦 ,  郑宝庆 ,  赵娟 ,  束树军 ,  唐佳 ,  贠栋 ,  D·N·哈泽

IPC: C08F220/10 ,  C08F220/26 ,  C09D133/08 ,  C09D133/10

Abstract: 水性分散体和包含所述水性分散体的水性涂料组合物，并且所述水性涂料组合物提供由其制成的涂层，所述涂层具有改进的抗腐蚀特性和良好的耐水性和抗粘连性。

公开(公告)号：CN113195563B

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN201980082920.3

申请日：2019-12-26

Applicant: 株式会社尼德克

Inventor： 丰田隆广 ,  村瀬响子

IPC: C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/26 ,  A61F2/16 ,  A61L27/16

Abstract: 本发明提供一种兼顾了柔软性和形状恢复性与闪辉的降低的软质眼内透镜材料和软质眼内透镜。软质眼内透镜材料由具有聚合性的聚合成分聚合而成，上述聚合成分包含含芳香族环的甲基丙烯酸酯(A)、含烷氧基的丙烯酸酯(B)、含羟基的丙烯酸酯(C)和交联性(甲基)丙烯酸酯(D)。将聚合成分设为100质量份时，含烷氧基的丙烯酸酯(B)的比例为30质量份以上。并且，含芳香族环的甲基丙烯酸酯(A)可以为40质量份以上52质量份以下。含烷氧基的丙烯酸酯(B)可以为35质量份以上46质量份以下。

公开(公告)号：CN111788262B

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN201980015126.7

申请日：2019-11-01

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金廷垠 ,  金智贤 ,  余承旭

IPC: C08L13/02 ,  C08F220/26 ,  C08F228/02 ,  C08K3/011 ,  C08K5/00 ,  C08K3/22 ,  C08J5/02

Abstract: 本发明提供一种羧酸改性的腈类共聚物胶乳组合物。更具体地，本发明提供一种包含羧酸改性的腈类共聚物的羧酸改性的腈类共聚物胶乳组合物、包含它的用于浸渍模塑的胶乳组合物和它的模制品，其中，所述羧酸改性的腈类共聚物包含来自(甲基)丙烯酸羧基烷基酯单体的重复单元和来自包括磺酸盐或磺酸酯的烯属不饱和磺酸单体的重复单元。

公开(公告)号：CN111454397B

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN202010052433.7

申请日：2020-01-17

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 清水孝幸 ,  小岛智之 ,  小林广纪 ,  长谷川慎 ,  松下友树 ,  石岛有希子

IPC: C08F220/26 ,  C08F220/18 ,  C08F220/58 ,  C08F222/20 ,  C08F2/48 ,  C08F2/44 ,  B41J2/01 ,  B41J2/175 ,  B29C64/106 ,  B29C64/40 ,  B33Y10/00

Abstract: 本发明涉及硬化型组合物，收容容器，二维或三维成像装置，二维或三维成像方法，以及硬化物。本发明的课题在于，提供硬化性优异、且具有高的排出稳定性的硬化型组合物。本发明的硬化型组合物含有聚合性化合物和聚合引发剂,所述聚合引发剂含有苯基双(2,4,6‑三甲基苯甲酰)氧化膦和二苯基(2,4,6‑三甲基苯甲酰)氧化膦，所述苯基双(2,4,6‑三甲基苯甲酰)氧化膦(X)的含量与所述二苯基(2,4,6‑三甲基苯甲酰)氧化膦(Y)的含量的质量比(X:Y)为1:6～1:160，以70,000rpm离心分离所述硬化型组合物30分钟后的上清液波长700nm的吸光度为0.02以下。

公开(公告)号：CN112041356B

公开(公告)日：2022-06-10

申请号：CN201980028075.1

申请日：2019-05-16

Applicant: 优迈特株式会社

Inventor： 峠大地 ,  守山五轮夫

IPC: C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08K3/06 ,  C08K5/3492 ,  C08K5/36 ,  C08L33/08

Abstract: 本发明提供一种丙烯酸系橡胶，其是通过在共聚物中作为交联性共聚单体共聚1重量％～4重量％的含反应性卤代基的乙烯基单体而成的共聚物，在交联性共聚单体以外的其它共聚单体100重量％中，以丙烯酸正丁酯45重量％～65重量％、丙烯酸2‑甲氧基乙酯10重量％～35重量％和丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯8重量％～30重量％的比例进行共聚。该丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯共聚丙烯酸系橡胶能够在提高以TR‑10值表示的耐寒性的同时抑制耐油性的降低，并且通过在其中配合对应于该交联性基团的硫化剂而形成交联性组合物。

公开(公告)号：CN111748054B

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN202010452967.9

申请日：2020-05-25

Applicant: 中国石油天然气股份有限公司

Inventor： 石华强 ,  李宪文 ,  丁里 ,  张燕明 ,  刘晓瑞 ,  李小玲 ,  刘静 ,  孟磊 ,  王历历 ,  祖凯 ,  傅鹏

IPC: C08F220/60 ,  C08F226/10 ,  C08F220/28 ,  C08F220/26 ,  C08F283/06 ,  C08F220/58 ,  C08F251/00 ,  C08F220/56 ,  C09K8/68 ,  C09K8/88

Abstract: 本发明提供的一种耐酸降阻剂及其制备方法和耐酸滑溜水压裂液体系，分子结构中引入疏水单体，体系不但在水溶液中具有较好的流变、破胶性能，可以满足长裂缝、高砂比施工的工艺要求，在酸性条件下压裂液具有较好的耐温性能；而且该类型稠化剂在酸液溶液中具有快速溶解性能，可以满足工厂化作业施工的工艺要求。采用耐酸降阻剂制备的耐酸滑溜水压裂液体系，该体系在储层温度完全降解，降低对储层伤害，压裂液体系有着较低的表界面张力和残渣含量，岩芯渗透率伤害较低，表现出良好的储层适应性。