一种半导体器件的固定装置和抗单粒子测试系统

    公开(公告)号:CN118824891A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202310409107.0

    申请日:2023-04-17

    IPC分类号: H01L21/67 G21K5/04

    摘要: 本申请提供了一种半导体器件的固定装置和抗单粒子测试系统,该半导体器件的固定装置包括:第一基板;可拆卸的固定在所述第一基板上的第二基板,所述第二基板与所述第一基板之间设置有加热模块;可拆卸的固定在所述第二基板上的第三基板,所述第三基板和所述第二基板之间用于放置半导体器件;所述半导体器件通过所述第二基板与所述加热模块热接触。通过第一基板与第二基板将加热模块固定,通过第二基板与第三基板固定半导体器件,此时加热模块和半导体器件通过第二基板实现热接触,通过加热模块对半导体器件进行加热,从而实现在不同温度下对半导体器件进行的单粒子实验。

    用于聚焦带电粒子束的台架和装置

    公开(公告)号:CN112292734B

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN201980034475.3

    申请日:2019-05-21

    发明人: 卢卡·波图拉

    IPC分类号: G21K1/093 G21K5/04 A61N5/10

    摘要: 台架(100)设置为用于将具有不同动量‑电荷比的带电粒子束聚焦到大致共同点。台架包括:至少一个环形磁体(10),具有中心孔,环形磁体的主轴线沿着中心孔延伸,环形磁体配置成根据带电粒子束的动量‑电荷比,在不同的径向位置处接收带电粒子束;其中,环形磁体包括离散的、基本上为平面的多个线圈(1a、1b、…、1p),线圈间隔开,并从主轴线(z轴)径向延伸,以及配置成产生磁场使得在使用中:将第一带电粒子束(30)导向主轴线上的第一点,第一带电粒子束具有沿着主轴线的运动分量,并在第一径向位置处进入环形磁体,以及将第二带电粒子束导向主轴线上的第一点,第二带电粒子束具有与第一带电粒子束不同的动量‑电荷比,并具有沿着主轴线的运动分量,并在第二径向位置处进入环形磁体,以及其中;平面线圈配置成产生关于主轴线周期性对称的磁场,以及;至少一个环形磁体在使用中基本上是静止的。

    辐照剂量率控制方法、控制装置、加速器和辐照装置

    公开(公告)号:CN117812799A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311864629.6

    申请日:2023-12-29

    摘要: 本公开提供了一种辐照剂量率控制方法,涉及辐照技术领域、加速器领域或其他领域。该方法用于包括微波源、电子枪和加速管的电子直线加速器,包括:在所述电子直线加速器出束时,监测用于指示改变出束参数的第一事件,其中,所述出束参数包括所述电子枪的脉冲及所述微波源的微波功率,所述第一事件通过辐照防护要求确定;响应于监测到所述第一事件,切断所述电子枪的脉冲,并将所述微波源的第一微波功率切换为第二微波功率,以使辐照安全边界的漏剂量率小于或等于第一预设阈值;其中,在所述第二微波功率下所述加速管内的暗电流水平小于或等于第二预设阈值。本公开还提供了辐照剂量率控制装置、加速器和辐照装置。

    可移动/可更换的高强度靶标以及多个加速器系统和方法

    公开(公告)号:CN117795622A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202280055867.X

    申请日:2022-08-12

    摘要: 所呈现的系统和方法有助于高效和有效地生成并传递辐射。在一个实施例中,辐射系统5300包括患者站,其中患者站包括多个加速器系统5320‑5370;以及微波生成系统5310,被配置用于为多个加速器生成微波。多个加速器可以被配置为提供来自多个加速器的基本同时的多个辐射束。在一个示例性实现方式中,微波生成系统包括多个射频(RF)源5311B‑5315B,其中多个RF源中的相应RF源为多个加速器系统中的对应相应加速器系统生成单独的微波信号;以及多个调制器5311A‑5315A,其中多个调制器中的相应调制器通过多个RF源中的相应RF源来调制单独的微波信号的生成。多个RF源和多个调制器中的相应RF源和调制器可以被包括在相应的多个RF链中,其中多个RF链中的相应RF链包括相应的环行器和剂量率伺服器。来自相应多个加速器系统的多个辐射束被配置为从不同定向传输。

    一种用于电子束辐照加工的多面辐照方法及系统

    公开(公告)号:CN113409981B

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202110676920.5

    申请日:2021-06-18

    IPC分类号: G21K5/04

    摘要: 本发明涉及一种用于电子束辐照加工的多面辐照方法及系统,方法包括:根据辐照要求,将电子加速器引出的束流进行分束偏转;分束偏转后的束流通过各束流传输系统完成束流偏转传输,以使将束流引到辐照物体不同的方向,同时对辐照物体多面进行辐照加工。本发明在原有辐照方法的基础上做了改进,通过束流分束及偏转的方法实现对辐照物体不同方向的同时辐照,从而在满足束流辐照加工条件的前提下提高了工作效率,将原来的多台加速器辐照工作改为一台加速器多方向辐照,大大降低了辐照加工成本,同时通过束流分束的设置,保障了辐照加工的均匀性。

    带电粒子束的入射装置及其入射方法

    公开(公告)号:CN116018654A

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202180055498.X

    申请日:2021-08-13

    IPC分类号: G21K5/04

    摘要: 提供在同时采用不同的多个核素照射带电粒子束时,使各个核素的粒子数以及能量最佳化来前段加速,并入射主加速器的技术。带电粒子束的入射装置(10)具备产生第一核素离子(31)的第一离子源(11)、使产生的第一核素离子31线性加速而成为第一带电粒子束(41)的第一线性加速器(21)、产生第二核素离子(32)的第二离子源(12)、使产生的第二核素离子(32)线性加速而成为第二带电粒子束(42)的第二线性加速器(22)、以及使第一带电粒子束(41)与第二带电粒子束(42)中的某一方入射主加速器(20)的偏转器(25)的切换电磁铁(15)。

    一种紧凑型多功能靶室装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115762845A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211444319.4

    申请日:2022-11-18

    IPC分类号: G21K5/04

    摘要: 本发明涉及一种紧凑型多功能靶室装置,包括靶室主体,所述靶室主体上设有用于抽真空的泵口,在靶室主体内沿束流入射方向的最前方设有束斑观测系统,所述束斑观测系统后方设置束流监测系统,所述束流监测系统的后方设置小样品快速换样系统,所述小样品快速换样系统的后方设置束流诊断系统,所述束流诊断系统的后方设置高低温控制系统。本发明可以用一个靶室准确方便的对离子束流进行诊断,进行样品辐照,对样品进行温度控制等操作,操作简便,节约了大量制作成本,实现了功能多样化。

    一种重离子束辐照装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115527700A

    公开(公告)日:2022-12-27

    申请号:CN202211169652.9

    申请日:2022-09-22

    IPC分类号: G21K5/04 G01T1/29

    摘要: 本发明涉及一种重离子束辐照装置,包括:束流控制单元,设于第一真空腔体前的真空管道内,用于遮挡束流通过或者放行束流通过;拦截式束流探测器,设于所述第一真空腔体内,用于探测辐照束流的强度;低温辐照单元,用于低温状态下辐照材料,低温辐照单元包括低温辐照腔体和低温系统,低温系统保障低温辐照腔体内处于预设的低温状态;抽真空单元,用于保持第一真空腔体在工作时处于真空状态;送料单元,用于将待辐照材料输送到低温辐照腔体内;连锁控制单元,连锁控制单元通过探测束流的强度控制束流控制单元、低温系统、抽真空单元和送料单元。本发明可以实现材料在常规、低温环境下的辐照,并可实现材料的自动化更换与束流流强的自动化连锁。