摘要:
L'invention a pour objet l'apport local à un substrat (7) d'un composé métallique (3) en des emplacements ou le long de pistes (10) de ce substrat, en vue d'assurer leur soudage. Selon l'invention, on place le composé métallique dans un réservoir, on élève par des moyens de chauffage (25) la température de ce composé pour obtenir un composé fondu, on place le réservoir contenant le composé métallique fondu au-dessus du substrat, on coule à l'endroit desdits emplacements ou pistes ce composé sur le substrat de manière à créer à la surface du substrat une couche locale d'apport dudit composé, et on laisse refroidir cette couche pour qu'elle se soude au substrat. L'invention s'applique notamment à l'étamage de composants électroniques.
摘要:
L'invention vise à améliorer la réponse spectrale d'une structure photoconductrice prévue pour recevoir un rayonnement lumineux et comprenant un substrat (3), une couche transparente électriquement conductrice (5), une couche semi-conductrice de conversion photoélectrique (7) dans laquelle est incorporée au moins une sous-couche semi-conductrice complémentaire (13a, 13b, 130) ayant un seuil d'absorption optique et une longueur de diffusion des charges électriques inférieurs à celui, respectivement celle, du matériau constituant la couche de conversion photoélectrique, et une électrode arrière (9) à surface réfléchissante (9a). Selon l'invention, les sous-couches complémentaires (13a, 13b, 13c...) sont incorporées dans le voisinage immédiat de certaines des zones où le carré du champ électrique optique des ondes stationnaires issues de la combinaison des rayonnements lumineux incidents et réfléchis est maximal. L'invention s'applique en particulier pour la fabrication des cellules solaires et autres structures photo-réceptives.
摘要:
L'invention se rapporte à un appareil et un procédé d'utilisation pour la formation de films minces au moyen d'un dépôt de vapeur chimique assisté par plasma. Selon l'invention, l'enceinte (2) comporte un espace (14) ménagé entre deux plaques supports (4,5) disposées sensiblement parallèlement l'une à l'autre et entre lesquelles est disposée au moins une électrode polarisée (3), le film mince se déposant sur les plaques supports après décomposition du gaz par décharge électrique. L'invention s'applique notamment à la réalisation de circuits intégrés.
摘要:
Il s'agit d'un dispositif photovoltaïque comprenant un substrat électriquement isolant transparent, plusieurs éléments photosensibles en couches minces disposés en pile sur le substrat, ces éléments comprenant une couche de matière conductrice opaque (9) traversée par des coupures ou ouvertures (13), celles-ci présentant avantageusement une forme de tranchée ménageant entre elles des bandes de matière (9a). Un isolement renforcé des coupures par un rebord de protection entre couches pourra être prévu. L'invention permet d'obtenir des modules solaires ou des panneaux pour le bâtiment, à transparence partielle.
摘要:
L'invention concerne la production par plasma de couches minces à usage électronique et/ou optoélectronique. Selon l'invention, on place l'enceinte (3) dans laquelle est produit le processus dans une chambre (2) dans laquelle on crée un vide plus poussé que dans l'enceinte, on chauffe les parois de l'enceinte (3) et on maintient froides celles de la chambre. L'invention s'applique à la production économique de telles couches minces à usage électronique et/ou optoélectronique.
摘要:
L'invention se rapporte à un appareil et un procédé d'utilisation pour la formation de films minces au moyen d'un dépôt de vapeur chimique assisté par plasma. Selon l'invention, l'enceinte (2) comporte un espace (14) ménagé entre deux plaques supports (4,5) disposées sensiblement parallèlement l'une à l'autre et entre lesquelles est disposée au moins une électrode polarisée (3), le film mince se déposant sur les plaques supports après décomposition du gaz par décharge électrique. L'invention s'applique notamment à la réalisation de circuits intégrés.