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1.发明公开Trennelement für das Trennen gasförmiger Isotope in mindestens zwei Fraktionen und mit mehreren Trennelementen aufgebauter Trennkorb 失效分离气态同位素在至少两个级分的分离和多个隔板分隔凹构成元件。
公开(公告)号：EP0102477A2
公开(公告)日：1984-03-14
申请号：EP83106609.7
申请日：1983-07-06
IPC分类号： B01D59/18
CPC分类号： B01D59/18
摘要： Bei einem Trennelement für gasförmige Isotope in zwei Fraktionen bestehend aus mehreren länglichen Trenndüsen-Chips mit einer Reihe von Einströmöffnungen für das Ausgangsgas auf der einen Seite der Chips und einer Reihe von Austrittsöffnungen für die schwere Fraktion auf der anderen Seite des Chips und Austrittsöffnungen für eine leichte Fraktion an den Kanten des Chips und aus zwei die Chips haltenden und mindestens eine Kammer aufweisenden Rohren, die miteinander durch Verbindungsmittel verbunden sind und in ihren Halteflächen mit auf die Eintrittsöffnungen bzw. auf die Austrittsöffnungen ausgerichteten Durchgängen versehen sind, wobei die Reihen der Eintrittsöffnungen und der Austrittsöffnungen in den Chips in Längsrichtung geordnet sind, ist zur Vereinfachung der Montage und des Aufbaus erfindungsgemäß vorgesehen, daß die Chips (2; 35) sich in Längsrichtung der Rohre (1, 3; 30) erstrecken und an ihren Seiten (5,6) direkt an den ebenen Halteflächen (1a, 3a; 30a) der Rohre anliegen und daß die Verbindungsmittel (4) in einer Reihe etwa mittig die beiden Rohre durchsetzen.
摘要翻译： 在一个分离器，用于气态同位素成两个部分，其包括多个细长的分型喷嘴芯片上的芯片的一侧上的数为原料气体入口开口和多个出口开口，用于在芯片和出口开口的另一侧上的重质馏分一个简单 在芯片的边缘与两个芯片分数保持和具有通过连接装置彼此连接，并与所述入口开口和通道的出口开口对准他们的保持面，其中，入口开口的行和设置的管的至少一个腔室 出口开口在纵向方向上的芯片排列，是根据本发明的简化的装配和结构提供的芯片（2; 35）在管道（1,3; 30）的纵向方向延伸，并且在其侧面（5，6） （直接到平面支撑面1a，3a中; 30 管的，并且a）创建，连接装置（4）大致居中通过将一排，两管。
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2.发明授权Process and device for the separation of solid and/or liquid particles from gases or of solids from liquids and for the separation of gases or liquids of differing densities 失效用于从气体中分离固体和/或液体颗粒的方法和装置，用于分离来自液体的固体和用于分离气体或液体的不同浓度
公开(公告)号：EP0086736B1
公开(公告)日：1986-12-30
申请号：EP83730008
申请日：1983-01-27
申请人： MICHEL-KIM, HERWIG
发明人： MICHEL-KIM, HERWIG
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3.发明公开Process for the preparation of structured photoresist layers for micro-electroforming by X-rays 失效通过X射线制备微结构的结构化光电子层的方法
公开(公告)号：EP0034795A3
公开(公告)日：1982-05-26
申请号：EP81101126
申请日：1981-02-17
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4.发明公开Verfahren zum Herstellen von Trenndüsenelementen zur Trennung gas-oder dampfförmiger Gemische, insbesondere Isotopengemische, und nach diesem Verfahren hergestellte Trenndüsenelemente 失效一种生产用于分离气态或蒸气混合物，尤其是同位素的混合物中分离的喷嘴元件，和根据此方法的方法，分离喷嘴元件。
公开(公告)号：EP0024515A1
公开(公告)日：1981-03-11
申请号：EP80103921.5
申请日：1980-07-09
发明人： Becker, Erwin-Willy, Prof. Dr. , Ehrfeld, Wolfgang, Dr. Dipl.-Phys. , Krieg, Gunther, Dr. Dipl.-Phys. , Bier, Wilhelm, Dr. Dipl.-Phys.
IPC分类号： B01D59/18
CPC分类号： B01D59/18
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines aus einem Trennkörper mit Abschlußplatten bestehenden Trenndüsenelements zur Trennung gas- oder dampfförmiger Gemische, insbesondere lsotopengemische, bei dem die den Trennkörper durchsetzenden Trennstruckturen aus Trennräumen und Gasführungsleitungen bestehen und die Abschlußplatten mit Kanälen für die Zu-und Abfuhr der Gasströme versehen sind. Dabei wird der Trennkörper schrittweise hergestellt, indem aus einem durch energiereiche Strahlung in ihrer Eigenschaft veränderbaren Materialschicht (Form-Material) durch partielles Bestrahlen und partielles Entfernen von Form-Material unter Ausnützung der durch die Bestrahlung erzeugten unterschiedlichen Materialeigenschaften die Trennstrukturen enthaltenden Formschichten hergestellt werden, die mit einem mit dem Gasgemisch verträglichen Material (Struktur-Material) aufgefüllt werden. Hierauf wird die der Strahlenquelle zugewandte Oberfläche wiederholt so oft mit Form-Material beschichtet und der sich hieran anschließende Vorgang des partiellen Bestrahlens und Entfernens von Form-Material und Auffüllens mit Struktur-Material so oft wiederholt, bis der Trennkörper eine vorgegebene Höhe erreicht hat. Danach wird das restliche Form-Material entfernt
摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产由一个分离体与端板用于分离气态或蒸气混合物中分离的喷嘴元件构成的组，特别是同位素混合物，其中所述穿过所述分离体中分离的分离的空间和导气管道的许多结构由与端板有用于的供应和去除通道 提供气流。 在这种情况下，分离主体由含有成形的层通过高能辐射在由局部照射和部分去除模制材料的它们的能力的材料层（模具材料）通过利用由照射产生的不同的材料特性由可变的分隔结构制造阶梯式，所述 与该气体混合物（结构材料）相容的材料被填充。 此后，重复面向辐射源表面侧经常涂覆有模制材料和如此反复于此局部照射和除去模具材料的后续工艺并用结构材料填充，直到分离体已达到预定高度。 此后，剩余的模具材料被去除
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5.发明公开Separation element for separating gaseous isotopes into at least two fractions, and separation baskets constructed with several separation elements 失效将气体同位素分离成至少两个分隔的分离元件，以及由几个分离元素构成的分离篮
公开(公告)号：EP0102477A3
公开(公告)日：1987-01-14
申请号：EP83106609
申请日：1983-07-06
IPC分类号： B01D59/18
CPC分类号： B01D59/18
摘要： Bei einem Trennelement für gasförmige Isotope in zwei Fraktionen bestehend aus mehreren länglichen Trenndüsen- Chips mit einer Reihe von Einströmöffnungen für das Ausgangsgas auf der einen Seite der Chips und einer Reihe von Austrittsöffnungen für die schwere Fraktion auf der anderen Seite des Chips und Austrittsöffnungen für eine leichte Fraktion an den Kanten des Chips und aus zwei die Chips haltenden und mindestens eine Kammer aufweisen den Rohren, die miteinander durch Verbindungsmittel ver bunden sind und in ihren Halteflächen mit auf die Eintrittsöff nungen bzw. auf die Austrittsöffnungen ausgerichteten Durchgängen versehen sind, wobei die Reihen der Eintritt söffnungen und der Austrittsöffnungen in den Chips in Längsrichtung geordnet sind, ist zur Vereinfachung der Montage und des Aufbaus erfindungsgemäß vorgesehen, daß die Chips (2; 35) sich in Längsrichtung der Rohre (1,3; 30) erstrecken und an ihren Seiten (5, 6) direkt an den ebenen Halteflächen (1a, 3a; 30a) der Rohre anlegen und daß die Verbindungsmittel (4) in einer Reihe etwa mittig die beiden Rohre durchsetzen.
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6.发明授权
公开(公告)号：EP0034795B1
公开(公告)日：1985-07-03
申请号：EP81101126.1
申请日：1981-02-17
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7.发明公开Method of manufacturing separating nozzles for gaseous or vaporous mixtures, which consist of separators with stop plates 失效用于气体或蒸汽混合物的分离喷嘴的制造方法，其具有停止板的分离器
公开(公告)号：EP0098919A3
公开(公告)日：1984-06-06
申请号：EP83102626
申请日：1983-03-17
发明人： Becker, Erwin, Prof. Dr. , Ehrfeld, Wolfgang, Dr. , Münchmeyer, Dietrich , Heuberger, Anton, Dr. , Betz, Hans, Dr.
IPC分类号： B01D59/18
CPC分类号： B01D59/18 , Y10S205/918
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8.发明公开Dopplerentformungsverfahren zur Herstellung von Trenndüsenstrukturen 失效Dopplerentformungsverfahren zur Herstellung vonTrenndüsenstrukturen。
公开(公告)号：EP0143223A1
公开(公告)日：1985-06-05
申请号：EP84110780.8
申请日：1984-09-10
摘要： Um Trenndüsenstruktureinheiten zu kopieren, wird von einer Urform, die einem Positiv der Trenndüsenstruktur entspricht, eine Negativform aus Kunststoff abgebildet, die auf einer elektrisch leitfähigen Substratplatte haftet, deren werkzeugseitige Oberfläche mit einem dünnen Kunststofffilm beschichtet ist, um das Eindringen des Kunststoffabformmaterials in die Bereiche der Berührungsflächen von Werkzeug und Substratplatte zu verhindern. Die aus dem Werkzeug enformte Kunststofform wird galvanisch aufgefüllt und die dabei entstehende Kopie der Urform von der Negativform getrennt.
摘要翻译： 1.一种复印用于大量生产分离喷嘴元件的分离喷嘴结构的方法，其使用用作主（工具）的分离喷嘴结构单元并且可以重复使用，并且配备有具有用于密封的基板的装置 工具，其特征在于，对于双脱模工艺，导电基板（图2中的1）设置有合成树脂膜（2，图2）; 通过将涂覆的基板压在工具（正金属模具）（图3）上），工具的接触表面通过基板（图3中的4）密封; 合成树脂膜（2，图3）与合成树脂（6，图4）进入内部结合，其中填充工具的结构间隙（5，图3）; 并且在从合成树脂（负型合成树脂模具）分离（第一次脱模）之后，现在露出基板（7）的合成树脂膜的区域，并且从导电 为了稍后分离正金属模具（11，图10）的基底表面区域（8，图7）被钝化（9，图8），合成树脂负模具层（图8中的10）的空腔是 以已知的方式电填充并电镀，直到合成树脂负模被能够支撑负载的封闭导电层（11）覆盖; 并且在第二脱模过程中，以这种方式制造的正金属模（复制品）（图10）与负合成树脂模分离; 并且所述负型合成树脂模具可以重复地用于电铸。
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9.发明公开Verfahren zum Herstellen von aus Trennkörpern mit Abschlussplatten bestehenden Trenndüsenelementen zur Trennung gas- oder dampfförmiger Gemische 失效由分离具有端板分隔的喷嘴元件，用于分离或蒸气混合物体的制造的气体方法。
公开(公告)号：EP0098919A2
公开(公告)日：1984-01-25
申请号：EP83102626.5
申请日：1983-03-17
发明人： Becker, Erwin, Prof. Dr. , Ehrfeld, Wolfgang, Dr. , Münchmeyer, Dietrich , Heuberger, Anton, Dr. , Betz, Hans, Dr.
IPC分类号： B01D59/18
CPC分类号： B01D59/18 , Y10S205/918
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von aus Trennkörpern mit Abschlußplatten bestehenden Trenndüsenelementen zur Trennung gas- oder dampfförmiger Gemische, bei dem aus durch energiereiche Strahlung in ihren Eigenschaften veränderbaren Formmaterial-Schichten durch partielles Bestrahlen und partielles Entfernen von Formmaterial unter Ausnutzung der durch die Bestrahlung erzeugten unterschiedlichen Materialeigenschaften die Negative der Trennstrukturen enthaltende Formen hergestellt werden, die mit einem mit dem zu trennenden Gemisch verträglichen Strukturmaterial aufgefüllt werden, wonach die Formen entfernt werden.
Um ohne Verlust an räumlichem Auflösungsvermögen zur Herstellung der Trennkörper jeweils nur eine Schicht des Formmaterials verwenden zu müssen, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Dicke der Formmaterial-Schichten etwa gleich der vorgesehenen Dicke der Trennkörper und die Eindringtiefe der Strahlung kleiner als die Dicke der Formmaterial-Schichten gewählt werden und das partielle Bestrahlen und das partielle Entfernen von Formmaterial abwechselnd solange durchgeführt wird, bis die Negative der Trennstrukturen die Formmaterial-Schichten vollständig durchsetzen.摘要翻译： 本发明涉及一种用于制造由分离具有盖板分离喷嘴元件通过在它们的性质通过利用由照射产生的热成型由局部照射和部分去除模制材料的材料层的高能量辐射中分离气态或蒸气混合物，其中，从所述可变机构的 包含模具分离结构的底片产生不同的材料性质，其填充有兼容与待分离混合物的结构材料，在此之后将模具移除。 为了有使用的成型材料的仅一个层，而不raumlichem分辨率损失用于制备分离器，分别是发明所提出的是，模具材料层大致等于Trennkorper的所设想的厚度和辐射的穿透深度的厚度小于所述Formmaterial-的厚度 层被选择并且该局部照射和部分去除模制材料的情况下进行absweschelnd直到分隔结构的通过将模制材料层完全底片。
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10.发明公开Verfahren zum Herstellen von Lackschichten für die Mikrogalvanoplastik mittels Röntgenstrahlen 失效Verfahren zum Herstellen von Lackschichtenfürdie Mikrogalvanoplastik mittelsRöntgenstrahlen。
公开(公告)号：EP0034795A2
公开(公告)日：1981-09-02
申请号：EP81101126.1
申请日：1981-02-17
摘要： Die Erfindung betrifft die Herstellung von mit Strukturen versehenen Lackschichten für die Mikrogalvanoplastik mittels Röntgenstrahlen. Dabei wird die Lackschicht (3) unter Zwischenschaltung einer dünnen Metallschicht (2) auf eine Unterlage (1) aus einem Material mit dem gleichen oder ähnlichen Ausdehnungskoeffizienten wie die Lackschicht (3) gebracht (Figur). Die Erfindung dient der Herstellung von 100 µm dicken Polymethylmetacrylat-(PMMA)-Schichten mit 10 µm breiten Strukturen wie sie insbesondere für die Fertigung von Trenndüsen für Isotopenanreicherungsanlagen verwendet werden.
摘要翻译： 1.一种用于通过X射线生产微孔玻璃清漆层的方法，其特征在于，所述清漆层在设置有金属层的基底上产生，并且由膨胀系数为 至少大致等于清漆层的厚度。
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