公开(公告)号：EP0811665A3

公开(公告)日：1998-10-21

申请号：EP97303133

申请日：1997-05-08

申请人： CABOT CORP

发明人： SCHERBER DEBRA L ,  KAUFMAN VLASTA BRUSIC ,  KISTLER RODNEY C ,  MUELLER BRIAN L ,  STREINZ CHRISTOPHER C

IPC分类号： B24C1/08 ,  B24C11/00 ,  C09G1/02 ,  C23F3/00 ,  H01L21/321

CPC分类号： C23F3/00 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3212

摘要： A polishing slurry for chemically mechanically polishing metal layers and films during the various stages of multilevel interconnect fabrication associated with integrated circuit manufacturing. The slurry includes an aqueous medium, an abrasive, an oxidizing agent, and an organic acid. The polishing slurry has been found to significantly lower or inhibit the silicon dioxide polishing rate, thus yielding enhanced selectivity. In addition, the polishing slurry is useful in providing effective polishing to metal layers at desired polishing rates while minimizing surface imperfections and defects.
Also disclosed is a method for producing coplanar metal/insulator films on a substrate utilizing the slurry of the present invention and chemical mechanical polishing technique relating thereto.

摘要翻译： 用于在与集成电路制造相关的多级互连制造的各个阶段期间化学机械抛光金属层和膜的抛光浆料。 浆料包括水性介质，研磨剂，氧化剂和有机酸。 已经发现抛光浆液显着降低或抑制二氧化硅抛光速率，从而产生增强的选择性。 此外，抛光浆料可用于以期望的抛光速率为金属层提供有效的抛光，同时最小化表面缺陷和缺陷。 还公开了利用本发明的浆料和与其相关的化学机械抛光技术在基材上生产共面金属/绝缘体膜的方法。

公开(公告)号：EP0846741A1

公开(公告)日：1998-06-10

申请号：EP97309730.6

申请日：1997-12-03

申请人： FUJIMI INCORPORATED

发明人： Miura, Shirou, c/o Fujimi Incorporated ,  Kawamura, Atsunori, c/o Fujimi Incorporated ,  Tamai, Kazusei, c/o Fujimi Incorporated

IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/00

CPC分类号： H01L21/02024 ,  C09G1/02

摘要： A polishing composition comprising fumed silica, a basic potassium compound and water, of which the specific electric conductivity is from 100 to 5,500 µS/cm.

摘要翻译： 含有热解法二氧化硅，碱性钾化合物和水的抛光组合物，其比电导率为100-5,500μS/ cm。

公开(公告)号：EP0449646B1

公开(公告)日：1995-01-11

申请号：EP91302788.4

申请日：1991-03-28

申请人： REM CHEMICALS, INC.

发明人： Michaud, Mark David ,  Zobbi, Robert George

IPC分类号： C23F3/00 ,  B24B31/14 ,  C23C22/73

CPC分类号： C23F3/00 ,  B24B31/14 ,  C23C22/73

公开(公告)号：EP0516653B1

公开(公告)日：1994-09-21

申请号：EP91903566.7

申请日：1991-02-18

申请人： SOLVAY (Société Anonyme)

发明人： DUJARDIN, François ,  REIGNIER, Marianne ,  BARTHELEMY, Nathalie

IPC分类号： C23F3/00

CPC分类号： C23F3/06

摘要： Baths for chemically polishing stainless steel surfaces comprising, in an aqueous solution, a mixture of hydrochloric acid, nitric acid and phosphoric acid, an optionally substituted hydroxybenzoic acid, at least one quaternary ammonium salt and an additive selected from perchloric acid and the water-soluble salts thereof.

摘要翻译： 用于化学抛光不锈钢表面的浴液，其包含在水溶液中的盐酸，硝酸和磷酸的混合物，任选取代的羟基苯甲酸，至少一种季铵盐和选自高氯酸和水溶性 其盐。

公开(公告)号：EP0449646A2

公开(公告)日：1991-10-02

申请号：EP91302788.4

申请日：1991-03-28

申请人： REM CHEMICALS, INC.

发明人： Michaud, Mark David ,  Zobbi, Robert George

IPC分类号： C23F3/00 ,  B24B31/14 ,  C23C22/73

CPC分类号： C23F3/00 ,  B24B31/14 ,  C23C22/73

摘要： A composition is described for use in the physicochemical surface refinement of objects having surfaces of titanium, nickel, and alloys of each, normally in a vibratory mass finishing process, comprising a combination of sulfamic acid, ammonium bifluoride, and hydrogen peroxide. The maximum concentration of the peroxide is controlled to avoid inhibiting or arresting the reaction with the metal; maintaining a minimum concentration prevents excessive metal dissolution, pitting and other undesirable surface defects.

摘要翻译： 描述了一种组合物，用于具有钛，镍和各自的合金的物体的物理化学表面改性，通常在振动质量整理方法中，其包含氨基磺酸，二氟化铵和过氧化氢的组合。 控制过氧化物的最大浓度以避免抑制或阻止与金属的反应; 维持最低浓度可防止金属过度溶解，点蚀等不良表面缺陷。

公开(公告)号：EP0342097A1

公开(公告)日：1989-11-15

申请号：EP89401225.1

申请日：1989-04-28

申请人： SOCIETE DE RECHERCHES TECHNIQUES ET INDUSTRIELLES (SRTI)

发明人： Fremeaux, Pierre

IPC分类号： C23F3/00 ,  C02F1/26

CPC分类号： C02F1/26 ,  C23F3/00

摘要： Procédé de purification et de récupération des bains de rinçage de bains acides de brillantage, caractérisé en ce qu'il comprend une mise en oeuvre en continu, et au moins des étapes suivantes, une étape de purification de bains de rinçage par des échanges liquide-liquide comportant une mise en contact de ces bains de rinçage enrichis en acides et en sels métalliques ou phase aqueuse, et d'un solvant organique ou phase organique, et une étape de récupération des acides par des échanges liquide-liquide comportant une mise en contact d'une eau et d'une phase organique chargée d'acides.

摘要翻译： 用于纯化和浴室的恢复用于冲洗酸性增白浴，DASS它包括应用程序的所有这是连续和方法至少包括以下阶段，通过液 - 液交换包括使本文漂洗浴漂洗浴的纯化的阶段 其富含氨基酸和金属的盐或wässrige相接触，在有机溶剂或有机相，并通过液 - 液交换包括有机相含有氨基酸使水接触用的酸的回收阶段。