摘要:
Zum optischen Inspizieren einer Oberfläche (32) an einem Gegenstand (26) wird ein erstes Muster mit einer Vielzahl von helleren und dunkleren Bereichen bereitgestellt, die einen ersten Intensitätsverlauf mit einer ersten Periode bilden. Der Gegenstand (26) wird mit der Oberfläche (32) relativ zu dem Muster positioniert. Dies geschieht auf eine Weise, so dass der erste Intensitätsverlauf auf die Oberfläche (32) fällt. Anschließend wird der erste Intensitätsverlauf relativ zu der Oberfläche (32) um eine definierte Schiebedistanz (126) verschoben. Entlang dieser Schiebedistanz (126) kann die Oberfläche (32) eine Vielzahl von unterschiedlichen Positionen relativ zu dem ersten Intensitätsverlauf einnehmen. Es werden zudem eine Vielzahl von Bildern aufgenommen, die die Oberfläche (32) mit dem ersten Intensitätsverlauf an den jeweils unterschiedlichen Positionen zeigen. Anhand dieser Bilder werden Eigenschaften der Oberfläche (32) bestimmt. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist das erste Muster eine Rotationssymmetrie relativ zu einem definierten Ursprungspunkt auf.