公开(公告)号：EP2701006B1

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：EP13179124.6

申请日：2013-08-02

申请人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives ,  Aselta Nanographics

发明人： Belledent, Jérôme

IPC分类号： H01J37/317 ,  G03F7/20 ,  G06F17/50 ,  G03F1/70 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

CPC分类号： G06F17/50 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/70 ,  G03F7/2063 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31764

公开(公告)号：EP2701006A2

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：EP13179124.6

申请日：2013-08-02

申请人： Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives ,  Aselta Nanographics

发明人： Belledent, Jérôme

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC分类号： G06F17/50 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/70 ,  G03F7/2063 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31764

摘要： Ce procédé de préparation d'un motif (C) à imprimer sur plaque ou sur masque par lithographie à faisceau d'électrons comporte les étapes suivantes : modélisation (102) du motif par décomposition de ce motif en un ensemble de formes géométriques élémentaires (M f [1,1], ..., M f [N f , N f ]) destinées à être imprimées individuellement pour reproduire ledit motif et, pour chaque forme géométrique élémentaire du modèle, détermination (104, 106) d'une dose de charges électriques à appliquer au faisceau d'électrons lors de l'impression individuelle de cette forme géométrique élémentaire, cette dose étant choisie dans un ensemble discret de doses incluant plusieurs doses non nulles prédéterminées enregistrées en mémoire.
L'ensemble de formes géométriques élémentaires (M f [1,1], ..., M f [N f , N f ]) est un pavage bidimensionnel de formes géométriques élémentaires identiques recouvrant le motif (C) à imprimer. De plus, lors de la détermination (104, 106) des doses à appliquer aux formes géométriques élémentaires, une correction d'erreur de discrétisation (106) est réalisée par tramage.