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公开(公告)号：EP4404238A1
公开(公告)日：2024-07-24
申请号：EP22869383.4
申请日：2022-09-16
摘要： The present invention provides a sputtering target and a method for manufacturing a sputtering target. The sputtering target includes a tubular backing tube, of which an axis being defined as an axial direction, and a plane in which a radial direction lies being perpendicular to the axial direction; at least two cylindrical target segments juxtaposed along the axial direction on the tubular backing tube; and a bonding material arranged between the tubular backing tube and the at least two cylindrical target segments. At least two ends of the at least two cylindrical target segments facing each other form a tongue-groove-fit with each other in such a way that at least one tongue at one end is overlapped with at least one groove at a respective other end of two adjacent cylindrical target segments, as viewed in the radial and/or the axial direction, the overlap extending at least along a part of a circumference of the corresponding end.
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公开(公告)号：EP3691815B1
公开(公告)日：2023-08-09
申请号：EP18792348.7
申请日：2018-09-24
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公开(公告)号：EP3645197B1
公开(公告)日：2022-02-23
申请号：EP18742896.6
申请日：2018-06-12
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5.发明授权
公开(公告)号：EP3183375B1
公开(公告)日：2021-04-07
申请号：EP15767073.8
申请日：2015-08-10
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公开(公告)号：EP3715497A1
公开(公告)日：2020-09-30
申请号：EP19166395.4
申请日：2019-03-29
申请人： Plansee SE
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Sputteringtarget umfassend ein elektrisch leitfähiges, oxidisches Molybdän-basiertes Targetmaterial, dadurch gekennzeichnet, dass das Targetmaterial eine MoO 2 -Phase sowie mindestens eine substöchiometrische Metalloxidphase, bei der mindestens ein Metall Molybdän ist, umfasst, wobei im Targetmaterial das atomare Verhältnis von Sauerstoff zu Molybdän in einem Bereich von 2,1 bis 2,5 liegt, mit der Maßgabe, dass der Gesamtsauerstoffgehalt des Targetmaterials unter 71 At.% liegt.
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公开(公告)号：EP3715496A1
公开(公告)日：2020-09-30
申请号：EP19166312.9
申请日：2019-03-29
申请人： Plansee SE
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Sputteringtarget mit einem elektrisch leitfähigen, oxidischen Targetmaterial, wobei das Targetmaterial mindestens ein Metalloxid von Molybdän (Mo) als metallischem Hauptbestandteil und von mindestens einem Dotierungselement M aus der Gruppe Tantal (Ta), Niob (Nb), Vanadium (V) und Titan (Ti) enthält. Bezogen auf ein Schliffbild desselben weist das Targetmaterial eine Matrixphase aus einem Mischoxid (Mo 1-x M x ) 5 O 14 mit 0,01 ≤ x ≤ 0,13 auf, wobei M in diesem Mischoxid eines oder mehrere Elemente der Gruppe Tantal (Ta), Niob (Nb), Vanadium (V) und Titan (Ti) ist. Das Sputteringtarget dient zur Herstellung molybdänoxidhaltiger Schichten.
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公开(公告)号：EP3221874B1
公开(公告)日：2019-03-06
申请号：EP15825902.8
申请日：2015-11-18
申请人： Plansee SE
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