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公开(公告)号：EP4404238A1
公开(公告)日：2024-07-24
申请号：EP22869383.4
申请日：2022-09-16
摘要： The present invention provides a sputtering target and a method for manufacturing a sputtering target. The sputtering target includes a tubular backing tube, of which an axis being defined as an axial direction, and a plane in which a radial direction lies being perpendicular to the axial direction; at least two cylindrical target segments juxtaposed along the axial direction on the tubular backing tube; and a bonding material arranged between the tubular backing tube and the at least two cylindrical target segments. At least two ends of the at least two cylindrical target segments facing each other form a tongue-groove-fit with each other in such a way that at least one tongue at one end is overlapped with at least one groove at a respective other end of two adjacent cylindrical target segments, as viewed in the radial and/or the axial direction, the overlap extending at least along a part of a circumference of the corresponding end.
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公开(公告)号：EP4341628A1
公开(公告)日：2024-03-27
申请号：EP22727240.8
申请日：2022-05-18
申请人： Plansee SE
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公开(公告)号：EP3715497A1
公开(公告)日：2020-09-30
申请号：EP19166395.4
申请日：2019-03-29
申请人： Plansee SE
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Sputteringtarget umfassend ein elektrisch leitfähiges, oxidisches Molybdän-basiertes Targetmaterial, dadurch gekennzeichnet, dass das Targetmaterial eine MoO 2 -Phase sowie mindestens eine substöchiometrische Metalloxidphase, bei der mindestens ein Metall Molybdän ist, umfasst, wobei im Targetmaterial das atomare Verhältnis von Sauerstoff zu Molybdän in einem Bereich von 2,1 bis 2,5 liegt, mit der Maßgabe, dass der Gesamtsauerstoffgehalt des Targetmaterials unter 71 At.% liegt.
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公开(公告)号：EP3715496A1
公开(公告)日：2020-09-30
申请号：EP19166312.9
申请日：2019-03-29
申请人： Plansee SE
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Sputteringtarget mit einem elektrisch leitfähigen, oxidischen Targetmaterial, wobei das Targetmaterial mindestens ein Metalloxid von Molybdän (Mo) als metallischem Hauptbestandteil und von mindestens einem Dotierungselement M aus der Gruppe Tantal (Ta), Niob (Nb), Vanadium (V) und Titan (Ti) enthält. Bezogen auf ein Schliffbild desselben weist das Targetmaterial eine Matrixphase aus einem Mischoxid (Mo 1-x M x ) 5 O 14 mit 0,01 ≤ x ≤ 0,13 auf, wobei M in diesem Mischoxid eines oder mehrere Elemente der Gruppe Tantal (Ta), Niob (Nb), Vanadium (V) und Titan (Ti) ist. Das Sputteringtarget dient zur Herstellung molybdänoxidhaltiger Schichten.
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公开(公告)号：EP3221874B1
公开(公告)日：2019-03-06
申请号：EP15825902.8
申请日：2015-11-18
申请人： Plansee SE
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公开(公告)号：EP3164526B1
公开(公告)日：2018-09-26
申请号：EP15750619.7
申请日：2015-06-30
申请人： Plansee SE
发明人： O'SULLIVAN, Michael , KATHREIN, Martin , LEICHTFRIED, Gerhard , HOSP, Thomas , LANG, Bernhard , SPRENGER, Dietmar
CPC分类号： C23C24/04 , B05B7/0025 , B05B7/0075 , B05B7/14 , B05B7/16 , B05B7/1626 , B05B7/228 , H05H2001/3484
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公开(公告)号：EP3109889B1
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：EP16001702.6
申请日：2012-01-17
申请人： Plansee SE
发明人： Eiter, Johann , Schatte, Jürgen , Glatz, Wolfgang , Leichtfried, Gerhard , Knabl, Wolfram , Schönauer, Stefan
IPC分类号： H01J35/10
CPC分类号： H01J35/108 , H01J2235/081 , H01J2235/085
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公开(公告)号：EP2882883B1
公开(公告)日：2017-10-04
申请号：EP13752822.0
申请日：2013-08-05
申请人： Plansee SE , Veeco Instruments Inc.
发明人： PLANKENSTEINER, Arno , FEIST, Christian , BOGUSLAVSKIY, Vadim , GURARY, Alexander I. , CHANG, Chenghung Paul
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/46 , H01L21/67
CPC分类号： H05B1/00 , C23C16/4585 , C23C16/46 , H01L21/67115
摘要： A terminal for mechanical support of a heating element, includes a base device, a mounting device, the mounting device adapted to support the heating element, and a support device connecting the base device to the mounting device, the support device allowing displacement of the heating element about a radial axis and less than about 10% displacement of the heating element about a tangential and/or axial axis.
摘要翻译： 一种用于加热元件的机械支撑的端子，包括基座装置，安装装置，适于支撑加热元件的安装装置以及将基座装置连接到安装装置的支撑装置，支撑装置允许加热 元件围绕径向轴线并小于加热元件围绕切向和/或轴向轴线的约10％的位移。
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