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1.

发明公开
USE OF NON-OXIDIZING STRONG ACIDS FOR THE REMOVAL OF ION-IMPLANTED RESIST 审中-公开
标题翻译：使用非氧化性强酸脱除离子注入电阻器

公开(公告)号：EP3084809A1

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：EP14873036.9

申请日：2014-12-19

申请人： Entegris, Inc. , ATMI Korea Co., Ltd.

发明人： BILODEAU, Steven , COOPER, Emanuel I. , LEE, Jaeseok , KIM, WonLae , BARNES, Jeffrey A.

IPC分类号： H01L21/306

CPC分类号： H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/0273

摘要： A method and composition for removing bulk and/or ion-implanted resist material from microelectronic devices have been developed. The compositions effectively remove the ion-implanted resist material while not damaging the silicon-containing or germanium-containing materials.

2.

发明公开
USE OF NON-OXIDIZING STRONG ACIDS FOR THE REMOVAL OF ION-IMPLANTED RESIST 审中-公开
标题翻译： VERWENDUNG NICHT-OXIDIERENDER STARKERSÄURENZUR ENTFERNUNG VON IONENIMPLANTIERTENWIDERSTÄNDEN

公开(公告)号：EP3084809A4

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：EP14873036

申请日：2014-12-19

申请人： ENTEGRIS INC , ATMI KOREA CO LTD

发明人： BILODEAU STEVEN , COOPER EMANUEL I , LEE JAESEOK , KIM WONLAE , BARNES JEFFREY A

IPC分类号： H01L21/311 , G03F7/42

CPC分类号： H01L21/31133 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/0273