公开(公告)号：EP2884824B1

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：EP14194851.3

申请日：2014-11-26

申请人： APO GmbH Massenkleinteilbeschichtung

发明人： Pozo, Antonio ,  Gangloff, Jens ,  Zeller, Markus

IPC分类号： H05H1/46 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32779 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32834 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4695

公开(公告)号：EP2884824A1

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：EP14194851.3

申请日：2014-11-26

申请人： APO GmbH Massenkleinteilbeschichtung

发明人： Pozo, Antonio ,  Gangloff, Jens ,  Zeller, Markus

IPC分类号： H05H1/46 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32779 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32834 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4695

摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zum Behandeln von Kleinteilen mittels eines Plasmas, die insbesondere eine Plasmaeinrichtung (3) umfasst, mit der ein Plasma erzeugbar ist, das sich zumindest über einen Bereich des Innenraums (6) des Gehäuses (2) erstreckt und zumindest zeitweise auf die sich in oder an dem Träger (17) befindlichen oder sich mit diesen bewegenden Kleinteilen einwirkt, wobei sich das Plasma zwischen zwei voneinander beabstandeten Elektroden (23) erstreckt, und das Plasma zwischen zwei stillstehenden Elektroden (23) erzeugbar ist.
Um die Vorrichtung dahingehend weiterzuentwickeln, dass eine Aufheizung der mechanischen Bestandteile und somit ein Verschleiß gering gehalten wird, wird vorgeschlagen, dass die Plasmaeinrichtung (3) sich in einem Nebenraum (13) befindet, der außerhalb eines Einwirkungsbereichs angeordnet ist, der von der Dreheinrichtung (18) und dem Träger(17) und den zu behandelnden Kleinteilen überstrichen wird und einen Teil des Innenraums (6) bildet. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Behandeln von Kleinteilen in einem Plasma.

摘要翻译： 本发明涉及一种装置（1），用于通过等离子体，该方法包括在特定的等离子体装置（3），具有可以产生等离子体，超过的内部（6）的壳体（2）和一个区域至少延伸的手段治疗小份 至少暂时地，其在或所述载体（17）上设置，或与这些移动小的部分，其中在两个间隔开的电极（23）之间产生的等离子体作用，并且可以产生两个固定电极（23）之间的等离子体。 为了进一步发展设备以这样的方式使得机械部件的加热，因此磨损抑制得较小，所以建议在等离子体装置（3）在相邻的室（13）被设置在曝光区域（的旋转装置外 18）与所述支撑件（17）和扫过小份待处理的形式（所述内部空间的一部分6）。 此外，本发明涉及一种用于在等离子体处理的小部件的方法。