公开(公告)号：EP1066123A4

公开(公告)日：2001-04-11

申请号：EP98951057

申请日：1998-10-13

申请人： ASHLAND INC

发明人： PETERS DARRYL WAYNE ,  WARD IRL E ,  MICHELOTTI FRANK W ,  RIDDLE FLOYD JR

IPC分类号： C09D9/00 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D11/00 ,  C23G1/20 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  B08B3/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34

CPC分类号： G03F7/425 ,  C09D9/00 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/2093 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D11/0047 ,  C23G1/20 ,  H01L21/02063

摘要： An aqueous stripping composition comprising a mixture of an organic amine and a corrosion inhibitor which is benzotriazole alone or in combination with gallic acid, its ester or analog. The stripping composition is effective to strip photoresists, residues from plasma process generated organic, metal-organic materials, inorganic salts, oxides, hydroxides or complexes in combination with or exclusive of organic photoresist films at low temperatures with little corrosion of copper or titanium containing substrates.

摘要翻译： 包含有机胺和腐蚀抑制剂的混合物的含水汽提组合物，所述腐蚀抑制剂是苯并三唑单独或与没食子酸，其酯或类似物组合。 剥离组合物有效去除光刻胶，等离子体处理产生的有机，金属 - 有机材料，无机盐，氧化物，氢氧化物或配合物的残余物与有机光致抗蚀剂薄膜组合或在低温下腐蚀含铜或钛的基材 。