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发明公开
FLUID HANDLING STRUCTURE FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开

公开(公告)号：EP3510446A1

公开(公告)日：2019-07-17

申请号：EP17755209.8

申请日：2017-08-28

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： VAN DEN EIJNDEN, Pepijn , ROPS, Cornelius Maria , POLET, Theodorus Wilhelmus , KEUKENS, Floor Lodewijk , TANASA, Gheorghe , CORTIE, Rogier Hendrikus Magdalena , CUYPERS, Koen , BUDDENBERG, Harold Sebastiaan , GATTOBIGIO, Giovanni Luca , VAN VLIET, Evert , TEN KATE, Nicolaas , FRENCKEN, Mark Johannes Hermanus , VAN ERVE, Jantien Laura , TEUNISSEN, Marcel Maria Cornelius Franciscus

IPC分类号： G03F7/20