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公开(公告)号：EP1865291B1
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：EP07016985.9
申请日：2007-03-09
发明人： Klaver, Renatus Gerardus , Van der Pasch, Engelbertus Antonius Fransiscus , Loopstra, Erik Roelof
CPC分类号： G01D5/38 , G03F7/70775
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2.发明公开Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method 有权对于位移测量系统和装置的制造方法的光刻设备及其
公开(公告)号：EP1865291A3
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：EP07016985.9
申请日：2007-03-09
发明人： Klaver, Renatus Gerardus , Van der Pasch, Engelbertus Antonius Fransiscus , Loopstra, Erik Roelof
IPC分类号： G01D5/38
CPC分类号： G01D5/38 , G03F7/70775
摘要： A displacement measurement system configured to provide measurement of the relative displacement of two components in six degrees of freedom with improved consistency and without requiring excessive space.
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3.发明公开Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method 有权Lithografische VorrichtungfürVerschiebungsmesssysteme
公开(公告)号：EP1865291A2
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：EP07016985.9
申请日：2007-03-09
发明人： Klaver, Renatus Gerardus , Van der Pasch, Engelbertus Antonius Fransiscus , Loopstra, Erik Roelof
IPC分类号： G01D5/38
CPC分类号： G01D5/38 , G03F7/70775
摘要： A displacement measurement system configured to provide measurement of the relative displacement of two components in six degrees of freedom with improved consistency and without requiring excessive space.
摘要翻译： 位移测量系统被配置为提供六个自由度中的两个部件的相对位移的测量，具有改进的一致性并且不需要过多的空间。
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